特許
J-GLOBAL ID：201703000594096051

9,9-ビス(4-(2-ヒドロキシエトキシ)フェニル)フルオレン結晶の製造方法

発明者：
松長 紀義

松長 紀義 について


出願人/特許権者：
大神薬化株式会社

大神薬化株式会社 について


代理人 (1件)： 市川 恒彦
公報種別：特許公報
出願番号（国際出願番号）：特願2016-157661
特許番号：特許第6156858号
出願日： 2016年08月10日
要約：
【課題】示差走査熱量測定法による融解ピークが115〜125°Cの温度域において認められ、かつ、嵩比重が0.60〜0.75g/cm3である新規な9,9-ビス(4-(2-ヒドロキシエトキシ)フェニル)フルオレン結晶の製造方法の提供。 【解決手段】フルオレノンとフェノキシエタノールとを反応させることで9,9-ビス(4-(2-ヒドロキシエトキシ)フェニル)フルオレンの粗結晶を得、この粗結晶を精製することで純度を少なくとも99%に高めた9,9-ビス(4-(2-ヒドロキシエトキシ)フェニル)フルオレンの精製結晶を調製する方法。温度を-20〜5°Cに制御したアセトニトリルとメタノールとの混合溶媒に精製結晶を溶解することで溶液を調製し、この溶液において結晶を析出させ、析出した結晶を分離して乾燥して、9,9-ビス(4-(2-ヒドロキシエトキシ)フェニル)フルオレン結晶を得る方法。 【選択図】図2
請求項（抜粋）：
【請求項1】 フルオレノンとフェノキシエタノールとを反応させ、9,9-ビス(4-(2-ヒドロキシエトキシ)フェニル)フルオレンの粗結晶を得る工程1と、 前記粗結晶を精製し、9,9-ビス(4-(2-ヒドロキシエトキシ)フェニル)フルオレンの純度を少なくとも99%に高めた精製結晶を調製する工程2と、 温度を-20〜5°Cに制御した処理溶媒に前記精製結晶を溶解することで調製した溶液において結晶を析出させる工程3と、 工程3において析出した結晶を乾燥する工程4と、 を含む9,9-ビス(4-(2-ヒドロキシエトキシ)フェニル)フルオレン結晶の製造方法。
IPC (6件)：
C07C 41/40 ( 200 6.01) ,  C07C 43/23 ( 200 6.01) ,  C08L 101/00 ( 200 6.01) ,  C08K 5/053 ( 200 6.01) ,  G02B 1/02 ( 200 6.01) ,  G02B 1/04 ( 200 6.01)
FI (6件)：
C07C 41/40 ,  C07C 43/23 D ,  C08L 101/00 ,  C08K 5/053 ,  G02B 1/02 ,  G02B 1/04
引用特許：
審査官引用 (4件)
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