特許
J-GLOBAL ID：201703000743776443
機械的表面活性化を使用してパラジウム-銀合金ガス分離膜を調製する方法
発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
特許業務法人川口國際特許事務所
公報種別：特許公報
出願番号（国際出願番号）：特願2014-549170
特許番号：特許第6120875号
出願日： 2012年12月17日
請求項（抜粋）：
【請求項1】 パラジウム-銀合金ガス分離膜システムを調製する方法であって、
パラジウムを含む層を支持する多孔質支持体を用意するステップ;
前記パラジウム層を研磨媒体で研磨して、研磨模様および0.85ミクロンから2.5ミクロンまでの平均表面粗さ(Sa)を付すことによって、前記パラジウム層の表面を活性化するステップ;
前記活性化パラジウム層の表面上に、化学的活性化を行わずに、前記活性化パラジウム層の表面上にめっきされる銀を含む上層を堆積させるステップ;ならびに
400°Cと800°Cの間の温度で前記パラジウム層および銀の上層をアニールするステップ
を含む方法。
IPC (5件)：
B01D 71/02 ( 200 6.01)
, B01D 69/10 ( 200 6.01)
, B01D 69/12 ( 200 6.01)
, B01D 53/22 ( 200 6.01)
, C23C 18/44 ( 200 6.01)
B01D 71/02 500
, B01D 69/10
, B01D 69/12
, B01D 53/22
, C23C 18/44
