特許

J-GLOBAL ID：201703001055891561

基材処理装置

発明者： 市邊 伸夫 ,  陸井 秀晃
出願人/特許権者： 株式会社SCREENホールディングス
代理人 (2件)： 吉竹 英俊 ,  有田 貴弘
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2016-059784
公開番号（公開出願番号）：特開2017-172878
出願日： 2016年03月24日
公開日（公表日）： 2017年09月28日
要約：

【課題】基材処理装置の小型化および乾燥の効率化を図ることが可能な技術を提供する。【解決手段】搬送経路が主面を内側にして基材を湾曲させる湾曲領域を含む。気体供給部が、湾曲領域を通過する前記主面に対して気体を供給する。吸気部が、湾曲前後の前記主面に挟まれた間隙の雰囲気を吸う。このため、当該間隙(基材の主面に挟まれた空間)に雰囲気が滞留し難く、塗布液の乾燥が進み易い。【選択図】図5

請求項（抜粋）：

主面に塗布液が供給された長尺帯状の基材を搬送経路に沿って搬送し、前記搬送経路が前記主面を内側にして前記基材を湾曲させる湾曲領域を含む、搬送部と、 前記湾曲領域を通過する前記主面に対して気体を供給する気体供給口を有し、供給される前記気体により前記基材を支持する気体供給部と、 湾曲前後の前記主面に挟まれた間隙の雰囲気を吸う吸気口を有する吸気部と、 を備える、基材処理装置。

IPC (5件)：

F26B 13/18 ,  F26B 13/10 ,  H01M 4/66 ,  H01M 4/04 ,  F26B 13/08

FI (5件)：

F26B13/18 A ,  F26B13/10 E ,  H01M4/66 A ,  H01M4/04 A ,  F26B13/08 Z

Fターム (39件)：

3L113AA08 ,  3L113AB02 ,  3L113AC10 ,  3L113AC32 ,  3L113AC34 ,  3L113AC48 ,  3L113AC49 ,  3L113BA34 ,  3L113CB06 ,  3L113CB21 ,  3L113DA01 ,  3L113DA14 ,  5H017AA03 ,  5H017BB08 ,  5H017BB14 ,  5H017BB15 ,  5H017BB17 ,  5H017BB19 ,  5H017CC01 ,  5H017DD05 ,  5H017EE01 ,  5H017HH04 ,  5H017HH05 ,  5H050AA19 ,  5H050BA17 ,  5H050CA01 ,  5H050CA08 ,  5H050CA09 ,  5H050CB03 ,  5H050CB08 ,  5H050CB09 ,  5H050CB11 ,  5H050DA04 ,  5H050GA02 ,  5H050GA21 ,  5H050GA22 ,  5H050GA29 ,  5H050HA07 ,  5H050HA12

引用特許：

審査官引用 (4件)

• スラリー乾燥装置
  公報種別：公開公報   出願番号：特願2013-112957   出願人：株式会社デンソー
• 流延膜乾燥装置及び溶液製膜方法
  公報種別：公開公報   出願番号：特願2014-098535   出願人：富士フイルム株式会社
• 特公昭38-013343
  
• 特公昭45-036952