基板処理装置、及び、基板処理方法

発明者： , , , , ,
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：特許業務法人HARAKENZO WORLD PATENT & TRADEMARK
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2016-071227
公開番号（公開出願番号）：特開2017-183605
出願日： 2016年03月31日
公開日（公表日）： 2017年10月05日
要約：

【課題】載置台に載置した基板の位置を高い精度で調整する。【解決手段】基板処理装置100は、基板10の大きさを特定する特定部24と、基板10の大きさに基づき、基板10の中心点を特定する位置特定部28と、基板10を載置する回転ステージ31と、基板10を平面方向から挟持する一組の挟持部20’とを備えており、挟持部20’は、位置特定部28が特定した基板10の中心点O1を、回転ステージ31の中心点O3上に移動させる。【選択図】図3

請求項（抜粋）：

基板を処理する基板処理装置であって、上記基板の大きさを特定する特定部と、上記基板の大きさに基づき、上記基板の中心点を特定する位置特定部と、上記基板を載置する載置台と、上記載置台上に載置された上記基板を平面方向から挟持する少なくとも一組の挟持部とを備えており、上記挟持部は、上記位置特定部が特定した上記基板の中心点を、上記載置台の中心点上に移動させるようになっていることを特徴とする基板処理装置。

IPC (2件)：

H01L 21/68 , H01L 21/683

FI (2件)：

H01L21/68 G , H01L21/68 N

Fターム (41件)：

5F131AA02 , 5F131AA13 , 5F131AA21 , 5F131BA15 , 5F131BA37 , 5F131BA60 , 5F131CA18 , 5F131CA23 , 5F131DA14 , 5F131DA33 , 5F131DA36 , 5F131DA42 , 5F131DA67 , 5F131DB52 , 5F131DB72 , 5F131EA04 , 5F131EA06 , 5F131EA07 , 5F131EA14 , 5F131EA15 , 5F131EA23 , 5F131EA24 , 5F131EB01 , 5F131EB35 , 5F131EB81 , 5F131EC43 , 5F131EC53 , 5F131EC54 , 5F131EC72 , 5F131FA13 , 5F131FA17 , 5F131FA26 , 5F131FA32 , 5F131KA22 , 5F131KA32 , 5F131KA43 , 5F131KA52 , 5F131KA54 , 5F131KB12 , 5F131KB32 , 5F131KB55

引用特許：

審査官引用 (1件)

基板位置決め装置、基板処理装置、基板位置決め方法及びプログラムを記録した記憶媒体
公報種別：公開公報出願番号：特願2011-058278 出願人：東京エレクトロン株式会社

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