特許

J-GLOBAL ID：201703001065324967

架橋ポリマー構造体及びその使用

発明者： 須丸 公雄 ,  高木 俊之 ,  森下 加奈 ,  金森 敏幸
出願人/特許権者： 国立研究開発法人産業技術総合研究所
代理人 (4件)： 志賀 正武 ,  森 隆一郎 ,  飯田 雅人 ,  大浪 一徳
公報種別：再公表公報
出願番号（国際出願番号）：JP2016062099
公開番号（公開出願番号）：WO2016-167342
出願日： 2016年04月15日
公開日（公表日）： 2016年10月20日
要約：

基板上に光溶解性ポリマー層を積層する工程(a)と、前記光溶解性ポリマー層上に架橋性ポリマーを含有する層を積層する工程(b)と、前記架橋性ポリマーを含有する層に、架橋条件下でパターン状に光を照射して、前記架橋性ポリマーをパターン状に架橋させて架橋ポリマーシートを得る工程(c)と、架橋しなかった前記架橋性ポリマーを洗浄除去し、パターン状の前記架橋ポリマーシートを得る工程(d)と、前記光溶解性ポリマー層に、溶解条件下でパターン状に光を照射して、前記光溶解性ポリマー層をパターン状に溶解させ、前記架橋ポリマーシートをパターン状に基板から剥離させる工程(e)と、を備える、架橋ポリマー構造体の製造方法。

請求項（抜粋）：

基板上に光溶解性ポリマー層を積層する工程(a)と、 前記光溶解性ポリマー層上に架橋性ポリマーを含有する層を積層する工程(b)と、 前記架橋性ポリマーを含有する層に、架橋条件下でパターン状に光を照射して、前記架橋性ポリマーをパターン状に架橋させて架橋ポリマーシートを得る工程(c)と、 架橋しなかった前記架橋性ポリマーを洗浄除去し、パターン状の前記架橋ポリマーシートを得る工程(d)と、 前記光溶解性ポリマー層に、溶解条件下でパターン状に光を照射して、前記光溶解性ポリマー層をパターン状に溶解させ、前記架橋ポリマーシートをパターン状に基板から剥離させる工程(e)と、 を備える、架橋ポリマー構造体の製造方法。

IPC (8件)：

G03F 7/095 ,  G03F 7/038 ,  G03F 7/039 ,  C12M 1/00 ,  C12N 5/00 ,  H01L 21/027 ,  G03F 7/20 ,  B32B 27/16

FI (8件)：

G03F7/095 ,  G03F7/038 601 ,  G03F7/039 ,  C12M1/00 C ,  C12N5/00 ,  H01L21/30 502D ,  G03F7/20 501 ,  B32B27/16

Fターム (43件)：

2H197AB20 ,  2H197CA02 ,  2H197CE01 ,  2H197CE10 ,  2H197HA10 ,  2H225AE04P ,  2H225AF98P ,  2H225AM04P ,  2H225AM52P ,  2H225AN11P ,  2H225AN12P ,  2H225AN50P ,  2H225AP17P ,  2H225CA30 ,  2H225CB02 ,  2H225CC01 ,  2H225CC03 ,  2H225CC17 ,  2H225CD06 ,  2H225DA02 ,  4B029AA08 ,  4B029BB11 ,  4B029CC02 ,  4B029GB05 ,  4B029GB09 ,  4B065AA90X ,  4B065BC41 ,  4B065BD14 ,  4B065CA44 ,  4F100AJ03B ,  4F100AK01B ,  4F100AK01C ,  4F100AK12A ,  4F100AT00A ,  4F100BA03 ,  4F100BA07 ,  4F100DC11B ,  4F100GB66 ,  4F100JA07B ,  4F100JB09B ,  4F100JB14B ,  4F100JB14C ,  5F146AA28