特許

J-GLOBAL ID：201703001066944411

高圧噴射処理装置のノズル、高圧噴射処理装置の評価方法、高圧噴射処理装置および高圧噴射処理方法

発明者： 岩坪 聡
出願人/特許権者： 富山県
代理人 (1件)： 木森 有平
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2016-070573
公開番号（公開出願番号）：特開2017-177037
出願日： 2016年03月31日
公開日（公表日）： 2017年10月05日
要約：

【課題】 径の異なるノズルチップを種々組み合わせることによって、ノズル内のエネルギーをコントロールすることが可能となり、微細化処理の効率化の実現と、微細化処理用のノズルや、解繊処理用のノズル等、用途によって使い分けることが可能となる。【解決手段】 ノズルから所定圧力で原料混合液を高圧噴射してキャビテーションを生じさせて微細化する高圧噴射処理装置のノズルであって、前記ノズルは通孔をもつノズルチップNnとノズルホルダーNhで構成され、前記ノズルチップの前記通孔の直径Dnに対する前記ノズルチップの前記通孔の厚みWnの比(Wn/Dn)を10以上かつ前記通孔の直径Dnを0.16mm以下とし、チップを分割し、その径を変えることで、効率的な微細化と各種微細化モードを実現したことを特徴とする。【選択図】 図2

請求項（抜粋）：

原料混合液をノズル内平均速度が300m/s以上となるように高圧噴射して微細化する高圧噴射処理装置のノズルにおいて、前記ノズルは通孔をもつノズルチップとノズルホルダーで構成され、前記ノズルチップの通孔の直径Dnは0.16mm以下で、かつ直径Dnに対する前記ノズルチップの前記通孔の厚みWnの比(Wn/Dn)は10以上45未満であることを特徴とする高圧噴射処理装置のノズル。

IPC (1件)：

B05B 1/02

FI (1件)：

B05B1/02

Fターム (5件)：

4F033BA03 ,  4F033DA01 ,  4F033EA01 ,  4F033JA07 ,  4F033NA01

引用特許：

審査官引用 (3件)

• 特許第5232976号
  
• 特開昭63-185467
  
• 複合粒子の粉砕及び分散方法
  公報種別：公開公報   出願番号：特願2009-168792   出願人：富山県, 株式会社スギノマシン

引用文献：

審査官引用 (1件)

• カーボンナノチューブやセルロースナノファイバーの湿式分散・解繊技術