特許
J-GLOBAL ID:201703001271650587
高濃度オゾン水を用いた放射性物質除去装置及び放射性物質除去方法
発明者:
,
出願人/特許権者:
公報種別:再公表公報
出願番号(国際出願番号):JP2013051317
公開番号(公開出願番号):WO2014-115267
出願日: 2013年01月23日
公開日(公表日): 2014年07月31日
要約:
【課題】高濃度かつ時間経過によるオゾン濃度の低下を抑制したオゾン水を生成し、これを用いて放射性物質の除去を行う技術を実現する。【解決手段】オゾン分子が少なくとも原水(溶媒)の水分子間に高密度に存在し、水分子間の水素結合が形成される割合(以下「水素結合率」という。)が原水の水素結合率より小さくなる程度に高密度でオゾン分子が溶存保持された分子水和オゾン水(Ozonewater molecules hydrated)を用いて、放射性物質の除去を行う。
請求項(抜粋):
原水中にオゾンを溶存させることにより生成したオゾン水を用いて、放射性物質に汚染された対象物から放射性物質を分離する放射性物質除去装置であって、
オゾン分子が原水の水分子間に存在し、水素結合率が前記原水の水素結合率よりも小さくなるほどに高密度で前記オゾン分子が溶存保持されたオゾン水を生成する気液混合機構と、
前記気液混合機構によって生成されたオゾン水を、放射性物質が付着した対象物に接触させ、オゾン分子の酸化作用により対象物から放射性物質を分離させるオゾン水供給機構と、
を備えたことを特徴とする放射性物質除去装置。
IPC (5件):
G21F 9/28
, B01F 1/00
, B01F 3/04
, B01F 5/04
, B01F 13/08
FI (6件):
G21F9/28 525D
, G21F9/28 521A
, B01F1/00 A
, B01F3/04 F
, B01F5/04
, B01F13/08 Z
Fターム (9件):
4G035AA02
, 4G035AB20
, 4G035AC23
, 4G035AC29
, 4G035AE02
, 4G035AE05
, 4G035AE13
, 4G035AE15
, 4G036AC27
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