特許

J-GLOBAL ID：201703001281659531

スチレン化フェノール系組成物、及びその製造方法

発明者： 森本 浩巨
出願人/特許権者： 四日市合成株式会社
代理人 (1件)： 特許業務法人あいち国際特許事務所
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2015-083616
公開番号（公開出願番号）：特開2016-204268
出願日： 2015年04月15日
公開日（公表日）： 2016年12月08日
要約：

【課題】トリスチレン化フェノール系化合物の含有量が高く、スチレンオリゴマー等の不純物の含有量の低いスチレン化フェノール系組成物及びその製造方法を提供すること。【解決手段】特定のモノスチレン化フェノール系化合物と、特定のジスチレン化フェノール系化合物と、特定のトリスチレン化フェノール系化合物とを含有するスチレン化フェノール系組成物、及びその製造方法である。スチレン化フェノール系組成物は、有機物100質量%当たりのモノスチレン化フェノール系化合物とジスチレン化フェノール系化合物とトリスチレン化フェノール系化合物との合計含有量が98質量%以上である。スチレン化フェノール系組成物におけるトリスチレン化フェノール系化合物の含有量は80質量%以上であり、副成分の含有量が2質量%以下(0を含む)である。【選択図】図1

請求項（抜粋）：

下記の式(1)及び/又は(2)で表されるモノスチレン化フェノール系化合物と、 下記の式(3)及び/又は(4)で表されるジスチレン化フェノール系化合物と、 下記の式(5)で表されるトリスチレン化フェノール系化合物と、を含有し、 有機物100質量%当たりの上記モノスチレン化フェノール系化合物と上記ジスチレン化フェノール系化合物と上記トリスチレン化フェノール系化合物との合計含有量が98質量%以上であり、上記トリスチレン化フェノール系化合物の含有量が80質量%以上であり、上記モノスチレン化フェノール系化合物、上記ジスチレン化フェノール系化合物、及び上記トリスチレン化フェノール系化合物以外の副成分の含有量が2質量%以下(0を含む)であることを特徴とするスチレン化フェノール系組成物。

IPC (3件)：

C07C 39/15 ,  C07C 37/14 ,  C09K 15/08

FI (3件)：

C07C39/15 ,  C07C37/14 ,  C09K15/08

Fターム (10件)：

4H006AA01 ,  4H006AA02 ,  4H006AB51 ,  4H006AC21 ,  4H006BA66 ,  4H006BC10 ,  4H006BC34 ,  4H025AA15 ,  4H039CA41 ,  4H039CF10