特許
J-GLOBAL ID：201703001303383349
酸性ガス分離用複合体の製造方法
発明者：
,
出願人/特許権者：
代理人 (3件)：
特許業務法人太陽国際特許事務所
, 柳田 征史
, 佐久間 剛
公報種別：特許公報
出願番号（国際出願番号）：特願2013-072017
公開番号（公開出願番号）：特開2014-195762
特許番号：特許第6156838号
出願日： 2013年03月29日
公開日（公表日）： 2014年10月16日
請求項（抜粋）：
【請求項1】 多孔質支持体上に原料ガス中の酸性ガスを分離する機能を有する酸性ガス分離促進輸送膜を備えてなる酸性ガス分離用複合体の製造方法であって、
親水性化合物、酸性ガスキャリアおよび水を含む、前記酸性ガス分離促進輸送膜の形成用塗布液を調製する塗布液調製工程と、
前記多孔質支持体として親水性多孔質膜、疎水性多孔質膜および補助支持膜がこの順に積層されてなる積層膜を用い、該積層膜の前記親水性多孔質膜の表面に、前記形成用塗布液を液膜厚さ0.3mm以上1.0mm以下で塗布し、該塗布された塗布液を乾燥させて最初の酸性ガス分離促進輸送膜を形成する初期層形成工程と、
先に形成された前記酸性ガス分離促進輸送膜を備えた前記親水性多孔質膜の表面に、前記酸性ガス分離促進輸送膜の形成用塗布液を液膜厚さ2.0mm以上3.0mm以下でさらに塗布し、該塗布された塗布液を乾燥させて次の酸性ガス分離促進輸送膜を形成する1回以上の次層形成工程とを含み、
前記酸性ガス分離促進輸送膜の形成用塗布液が、塗布時において15°C以上35°C以下の温度であり、かつB型粘度測定において回転数60rpmにおける粘度測定値が0.5Pa・s以上5Pa・s以下であり、
前記塗布液調製工程において、前記酸性ガス分離促進輸送膜の形成用塗布液として、前記酸性ガスキャリアの濃度が異なる複数の形成用塗布液を調製し、
前記次層形成工程において、先に形成された酸性ガス分離促進輸送膜を形成する際の前記形成用塗布液よりも前記酸性ガスキャリアの濃度が低い形成用塗布液を用いる酸性ガス分離用複合体の製造方法。
IPC (7件)：
B01D 69/00 ( 200 6.01)
, B01D 69/10 ( 200 6.01)
, B01D 71/38 ( 200 6.01)
, B01D 71/40 ( 200 6.01)
, B01D 71/02 ( 200 6.01)
, B01D 69/12 ( 200 6.01)
, B01D 69/06 ( 200 6.01)
B01D 69/00 500
, B01D 69/10
, B01D 71/38
, B01D 71/40
, B01D 71/02 500
, B01D 69/12
, B01D 69/06
出願人引用 (6件)
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審査官引用 (6件)
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