特許
J-GLOBAL ID：201703001970400510

核酸分析用基板、及び核酸分析用フローセル

発明者：
奈良原 正俊

奈良原 正俊 について

, 
庄司 智広

庄司 智広 について


出願人/特許権者：
株式会社日立ハイテクノロジーズ

株式会社日立ハイテクノロジーズ について


代理人 (1件)： 戸田 裕二
公報種別：特許公報
出願番号（国際出願番号）：特願2013-226135
公開番号（公開出願番号）：特開2015-084717
特許番号：特許第6158042号
出願日： 2013年10月31日
公開日（公表日）： 2015年05月07日
請求項（抜粋）：
【請求項1】核酸分析用フローセルを製造する核酸分析用フローセルの製造方法であって、 合成樹脂基板上に無機酸化物からなる無機酸化物膜を成膜し、 該無機酸化物膜上にシリカからなるシリカ膜を導入し、 パターン形成材料を塗工し、その後、当該パターン形成材料を用いてスポット形成部を製作し、 エッチングプロセスを用いて、スポット形成部以外のシリカ膜及びパターン形成材料を除去し、 残りのパターン形成材料を除去し、その後、疎水性の膜を導入し、 前記シリカ膜上にサンプル固定用のサンプル固定用スポットを形成する、核酸分析用フローセルの製造方法。
IPC (5件)：
C12M 1/00 ( 200 6.01) ,  G01N 33/552 ( 200 6.01) ,  G01N 37/00 ( 200 6.01) ,  G01N 33/543 ( 200 6.01) ,  G01N 33/53 ( 200 6.01)
FI (8件)：
C12M 1/00 A ,  G01N 33/552 ,  G01N 37/00 101 ,  G01N 37/00 102 ,  G01N 33/543 597 ,  G01N 33/53 M ,  G01N 33/543 525 U ,  G01N 33/543 525 W
引用特許：
出願人引用 (4件)
全件表示
審査官引用 (4件)
全件表示

前のページに戻る

TOP

BOTTOM