特許
J-GLOBAL ID:201703002073205868
電子線照射による不活化方法および処理装置
発明者:
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出願人/特許権者:
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代理人 (5件):
岡部 讓
, 吉澤 弘司
, 三山 勝巳
, ▲濱▼口 岳久
, 川崎 孝
公報種別:特許公報
出願番号(国際出願番号):特願2013-083513
公開番号(公開出願番号):特開2014-204814
特許番号:特許第6041744号
出願日: 2013年04月12日
公開日(公表日): 2014年10月30日
請求項(抜粋):
【請求項1】 電子線が照射されるように構成された処理室内の保持部に、開口部を有する中空形状の被処理物を保持させる工程と、
前記保持された被処理物を含む領域に対して前記電子線を照射し、気流生成部により生成された気流により、前記領域に照射された電子線によって励起された所定のガスを、少なくとも前記被処理物の開口部および前記電子線が前記保持部により遮蔽される保持箇所における前記被処理物の内表面に対して供給する工程とを有することを特徴とする電子線照射による前記被処理物に付着した微生物の不活化方法。
IPC (4件):
A61L 2/08 ( 200 6.01)
, A61L 2/14 ( 200 6.01)
, B65B 55/08 ( 200 6.01)
, B65B 55/04 ( 200 6.01)
FI (4件):
A61L 2/08 108
, A61L 2/14
, B65B 55/08 B
, B65B 55/04 C
引用特許:
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