特許

J-GLOBAL ID：201703002274569566

ガラス基板の製造方法、およびガラス基板

発明者： 小山 昭浩
出願人/特許権者： AvanStrate株式会社
代理人 (1件)： グローバル・アイピー東京特許業務法人
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2015-132211
公開番号（公開出願番号）：特開2017-014062
出願日： 2015年06月30日
公開日（公表日）： 2017年01月19日
要約：

【課題】熱処理空間におけるパーティクル数を低減し、異物付着が最小限に抑制され、且つ、熱収縮に優れたガラス基板を経済的に優位に製造する製造方法および製造装置を提供する。【解決手段】アニール工程を含むガラス基板の製造方法であり、該アニール工程の熱処理空間がクリーンクラス10,000(0.5μm以上の粒子が1立方フィート中に10,000個以下)に維持されることを特徴とする。【選択図】 図3

請求項（抜粋）：

熱処理空間がクリーンクラス10,000(0.5μm以上の粒子が1立方フィート中に10,000個以下)に維持されるアニール工程を含む、ディスプレイ用のガラス基板の製造方法。

IPC (3件)：

C03B 25/087 ,  C03B 35/20 ,  G02F 1/133

FI (3件)：

C03B25/087 ,  C03B35/20 ,  G02F1/1333 500

Fターム (8件)：

2H190JB02 ,  2H190JC00 ,  2H190JD17 ,  4G015CA01 ,  4G015CA08 ,  4G015CB01 ,  4G015CC01 ,  4G015GB01