特許
J-GLOBAL ID：201703002298830770
感活性光線性又は感放射線性樹脂組成物、感活性光線性又は感放射線性膜、感活性光線性又は感放射線性膜を備えたマスクブランクス、パターン形成方法、及び電子デバイスの製造方法
発明者：
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出願人/特許権者：
代理人 (13件)：
蔵田 昌俊
, 福原 淑弘
, 中村 誠
, 野河 信久
, 峰 隆司
, 河野 直樹
, 砂川 克
, 井関 守三
, 赤穂 隆雄
, 井上 正
, 佐藤 立志
, 岡田 貴志
, 堀内 美保子
公報種別：特許公報
出願番号（国際出願番号）：特願2013-205970
公開番号（公開出願番号）：特開2015-069182
特許番号：特許第6122754号
出願日： 2013年09月30日
公開日（公表日）： 2015年04月13日
請求項（抜粋）：
【請求項1】 アルカリ可溶性樹脂(A)、活性光線又は放射線の照射により酸を発生する化合物(B)および下記一般式(1-0)で表される架橋剤(C)を含有し、前記架橋剤(C)の分子量が450以上1500以下である感活性光線性又は感放射線性樹脂組成物。
式中、
X1、X2は、各々独立に、水素原子、アルキル基、ヒドロキシメチル基又はアルコキシメチル基を表す。
Y0、Y1は、各々独立に、炭素原子、窒素原子又は酸素原子を表す。
l個のX1及びn個のX2の少なくとも1つは、ヒドロキシメチル基又はアルコキシメチル基であり、Y0及びY1の少なくとも一方は、当該ヒドロキシメチル基またはアルコキシメチル基で置換された窒素原子である。
Y2は、単結合又はアルキレン基を表す。
Zは、m価の連結基を表す。
lは、Y0が炭素原子のときl=3であり、Y0が窒素原子のときl=2であり、Y0が酸素原子のとき、l=1である。
nは、Y1が炭素原子のときn=2であり、Y1が窒素原子のときn=1であり、Y1が酸素原子のとき、n=0である。
mは、2から6の整数を表す。
X1、X2及びY2の二つが結合し、環を形成していてもよい。
IPC (2件)：
G03F 7/038 ( 200 6.01)
, G03F 7/004 ( 200 6.01)
G03F 7/038 601
, G03F 7/004 501
