特許
J-GLOBAL ID：201703002518666798

衛生洗浄装置

発明者：
梶野 真一

梶野 真一 について


出願人/特許権者：
アイシン精機株式会社

アイシン精機株式会社 について


公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2016-072470
公開番号（公開出願番号）：特開2017-180014
出願日： 2016年03月31日
公開日（公表日）： 2017年10月05日
要約：
【課題】 従来よりも人体局部の洗浄に使用できる温水の量の減少を抑制した衛生洗浄装置を提供することを課題とする。【解決手段】 水を供給する第一配管9と、第一配管9から供給される水を加熱して温水を生成する温水生成装置14と、温水生成装置14によって生成された温水で使用者の局部を洗浄するお尻洗浄用ノズル2と、第一配管9から供給される水に除菌成分を加えて除菌液を生成する除菌液生成装置17と、を備え、除菌液はお尻洗浄用ノズル2と便器4との少なくとも一方に供給され、除菌液の生成において、温水生成装置14から除菌液生成装置17に温水は供給されず、除菌液は、除菌液生成装置17から温水生成装置14に供給されない構成とする。【選択図】 図2
請求項（抜粋）：
水を供給する水供給手段と、 前記水供給手段から供給される前記水を加熱して温水を生成する温水生成手段と、 前記温水生成手段によって生成された前記温水で使用者の局部を洗浄する洗浄手段と、 前記水供給手段から供給される前記水に除菌成分を加えて除菌液を生成する除菌液生成手段と、 を備え、 前記除菌液は前記洗浄手段と便器との少なくとも一方に供給され、 前記除菌液の生成において、前記温水生成手段から前記除菌液生成手段に前記温水は供給されず、 前記除菌液は、前記除菌液生成手段から前記温水生成手段に供給されない、 衛生洗浄装置。
IPC (2件)：
E03D 9/02 ,  E03D 9/08
FI (2件)：
E03D9/02 ,  E03D9/08 B
Fターム (9件)：
2D038AA03 ,  2D038JA05 ,  2D038JB01 ,  2D038JB03 ,  2D038JB05 ,  2D038JF00 ,  2D038JF06 ,  2D038JH02 ,  2D038JH21
引用特許：
審査官引用 (4件)
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