特許
J-GLOBAL ID:201703003003025850
合成ガス製造触媒用担体及びその製造方法、合成ガス製造触媒及びその製造方法、並びに合成ガスの製造方法
発明者:
,
,
出願人/特許権者:
代理人 (5件):
岡部 讓
, 臼井 伸一
, 高梨 憲通
, 齋藤 正巳
, 木村 克彦
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願2016-116202
公開番号(公開出願番号):特開2017-217629
出願日: 2016年06月10日
公開日(公表日): 2017年12月14日
要約:
【課題】二酸化炭素リフォーミングにより合成ガスを製造する際に、炭素析出を抑制でき、長期間安定的に効率良く合成ガスを製造することができる合成ガス製造触媒用担体を提供する。【解決手段】メタンを含有する軽質炭化水素と二酸化炭素とを含む原料ガスから、一酸化炭素と水素を含む合成ガスを製造する際に使用される合成ガス製造触媒用担体であって、酸化マグネシウム粒子と該酸化マグネシウム粒子の表面に存在する酸化カルシウムとを含有し、該酸化カルシウムの含有量が、Ca換算で0.005質量%〜1.5質量%である合成ガス製造触媒用担体。【選択図】図3
請求項(抜粋):
メタンを含有する軽質炭化水素と二酸化炭素とを含む原料ガスから、一酸化炭素と水素とを含む合成ガスを製造する際に使用される合成ガス製造触媒用担体であって、
酸化マグネシウム粒子と該酸化マグネシウム粒子の表面に存在する酸化カルシウムとを含有し、該酸化カルシウムの含有量が、Ca換算で0.005質量%〜1.5質量%であることを特徴とする合成ガス製造触媒用担体。
IPC (7件):
B01J 23/02
, B01J 32/00
, B01J 37/08
, B01J 35/10
, B01J 37/02
, C01B 3/40
, B01J 23/58
FI (7件):
B01J23/02 M
, B01J32/00
, B01J37/08
, B01J35/10 301J
, B01J37/02 101Z
, C01B3/40
, B01J23/58 M
Fターム (55件):
4G140EA03
, 4G140EA05
, 4G140EA06
, 4G140EB16
, 4G140EB27
, 4G140EC03
, 4G169AA01
, 4G169AA03
, 4G169AA08
, 4G169AA09
, 4G169BA06A
, 4G169BA06B
, 4G169BA08C
, 4G169BB04A
, 4G169BB04B
, 4G169BB05C
, 4G169BB12C
, 4G169BC09A
, 4G169BC09B
, 4G169BC68A
, 4G169BC70A
, 4G169BC70B
, 4G169BC71A
, 4G169BC71B
, 4G169BC73A
, 4G169BC74A
, 4G169BD01C
, 4G169BD02C
, 4G169BD04C
, 4G169BD05B
, 4G169BE08C
, 4G169CC01
, 4G169DA06
, 4G169DA07
, 4G169DA08
, 4G169EA02X
, 4G169EA02Y
, 4G169EB15Y
, 4G169EB18Y
, 4G169EC02X
, 4G169EC02Y
, 4G169EC28
, 4G169EC29
, 4G169EE06
, 4G169FA01
, 4G169FA02
, 4G169FB14
, 4G169FB24
, 4G169FB30
, 4G169FB44
, 4G169FB57
, 4G169FB66
, 4G169FC02
, 4G169FC07
, 4G169FC08
引用特許: