特許

J-GLOBAL ID：201703003091322746

蛍光X線分析方法及び蛍光X線分析装置

発明者： 寺下 衛作
出願人/特許権者： 株式会社島津製作所
代理人 (1件)： 特許業務法人京都国際特許事務所
公報種別：再公表公報
出願番号（国際出願番号）：JP2013078001
公開番号（公開出願番号）：WO2015-056304
出願日： 2013年10月15日
公開日（公表日）： 2015年04月23日
要約：

有機物を主成分とする試料から放出されるX線を測定した結果を利用して主成分以外の含有成分を定量する蛍光X線分析方法において、蛍光X線強度の測定値に基づいて含有成分の定量値を設定し、散乱X線強度の測定値と、試料が主成分からなり、かつ照射されたX線が全て試料に入射すると仮定して算出した散乱X線強度の理論値に基づいて、X線の照射率を表す面積占有率を計算し、含有成分の定量値及び面積占有率を用いて計算した蛍光X線強度の理論値と、蛍光X線強度の測定値に基づいて含有成分の定量値を再計算し、含有成分の定量値及び面積占有率を用いて計算した散乱X線強度の理論値と、散乱X線強度の測定値の比較結果に基づいて面積占有率を再計算し、含有成分の定量値の再計算及び面積占有率の再計算を繰り返し、予め設定された収束条件を満たした時点における定量値を前記含有成分の確定定量値とする。

請求項（抜粋）：

分子式が既知である有機物を主成分とする試料にX線を照射し、該試料から放出されるX線を測定した結果を利用して該試料に含まれる前記主成分以外の含有成分を定量する蛍光X線分析方法であって、 a) 測定された蛍光X線のエネルギーに基づいて、前記含有成分の種類を決定し、 b) 前記試料からの蛍光X線強度の測定値に基づいて前記含有成分の定量値を設定し、 c) 前記試料からの散乱X線強度の測定値と、試料が前記主成分からなり、かつ照射されたX線が全て試料に入射すると仮定して算出した散乱X線強度の理論値に基づいて、前記試料に対するX線の照射率を表す面積占有率を計算し、 d) 前記含有成分の定量値及び前記面積占有率を用いて計算した蛍光X線強度の理論値と、前記蛍光X線強度の測定値の比較結果に基づいて前記含有成分の定量値を再計算し、 e) 前記再計算後の含有成分の定量値及び前記面積占有率を用いて計算した散乱X線強度の理論値と、前記散乱X線強度の測定値の比較結果に基づいて前記面積占有率を再計算し、 f) 前記含有成分の定量値の再計算及び前記面積占有率の再計算を繰り返し、該再計算後の定量値及び/又は前記面積占有率が予め設定された収束条件を満たした時点における定量値を前記含有成分の確定定量値とする ことを特徴とする蛍光X線分析方法。

IPC (3件)：

G01N 23/223 ,  G01N 23/20 ,  G01N 23/22

FI (3件)：

G01N23/223 ,  G01N23/20 ,  G01N23/22 330

Fターム (8件)：

2G001AA01 ,  2G001BA04 ,  2G001BA14 ,  2G001CA01 ,  2G001EA03 ,  2G001FA08 ,  2G001GA01 ,  2G001KA01