特許
J-GLOBAL ID：201703003124539410

複合酸化物触媒および共役ジエンの製造方法

発明者：
山口 哲史

山口 哲史 について

, 
崔 永樹

崔 永樹 について


出願人/特許権者：
三菱ケミカル株式会社

三菱ケミカル株式会社 について


代理人 (2件)： 重野 剛 ,  重野 隆之
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2016-058927
公開番号（公開出願番号）：特開2017-170336
出願日： 2016年03月23日
公開日（公表日）： 2017年09月28日
要約：
【課題】炭素数4以上のモノオレフィンを原料として気相接触酸化脱水素反応により共役ジエンを製造する際に用いる複合酸化物触媒であって、原料が触媒と接触する時間が短い条件下でも原料の転化率に優れ、選択率、収率の向上が可能で、長期間安定的に気相接触酸化脱水素反応を行える、高強度複合酸化物触媒を提供する。【解決手段】炭素数4以上のモノオレフィンを気相接触酸化脱水素反応する際に用いる複合酸化物触媒であって、複数の特定元素の酸化物を含み、比表面積が5m2/g〜25m2/g、細孔容積が0.20ml/g〜0.50ml/g、細孔径0.1μm〜1.0μmの細孔容積の割合が全細孔容積の50%〜68%、同細孔径0.1μm未満の細孔容積の割合が全細孔容積の27%〜50%である複合酸化物触媒。【選択図】なし
請求項（抜粋）：
炭素数4以上のモノオレフィンを酸素含有ガスにより気相接触酸化脱水素反応させて対応する共役ジエンを製造する際に用いる複合酸化物触媒であって、 該複合酸化物触媒がモリブデンの酸化物、ビスマスの酸化物、コバルトの酸化物、ニッケルの酸化物、鉄の酸化物及びシリカを含み、比表面積が5m2/g〜25m2/gであり、細孔容積が0.20ml/g〜0.50ml/gであり、かつ、細孔径分布において細孔径が0.1μm〜1.0μmに存在する細孔により占められる細孔容積は全細孔容積のうちの50%〜68%、及び細孔径が0.1μm未満に存在する細孔により占められる細孔容積は全細孔容積のうちの27%〜50%である複合酸化物触媒。
IPC (4件)：
B01J 23/887 ,  B01J 35/10 ,  C07C 11/167 ,  C07C 5/48
FI (4件)：
B01J23/887 Z ,  B01J35/10 301G ,  C07C11/167 ,  C07C5/48
Fターム (58件)：
4G169AA02 ,  4G169BA02B ,  4G169BB06A ,  4G169BB06B ,  4G169BC02A ,  4G169BC02B ,  4G169BC03A ,  4G169BC03B ,  4G169BC05A ,  4G169BC06A ,  4G169BC19A ,  4G169BC25A ,  4G169BC25B ,  4G169BC27A ,  4G169BC59A ,  4G169BC59B ,  4G169BC60A ,  4G169BC66A ,  4G169BC66B ,  4G169BC67A ,  4G169BC67B ,  4G169BC68A ,  4G169BC68B ,  4G169BD03A ,  4G169BD03B ,  4G169BD05A ,  4G169BD05B ,  4G169BD07A ,  4G169CB07 ,  4G169CB20 ,  4G169DA06 ,  4G169EA02Y ,  4G169EB14Y ,  4G169EC02X ,  4G169EC02Y ,  4G169EC06X ,  4G169EC06Y ,  4G169EC09X ,  4G169EC09Y ,  4G169EC18X ,  4G169EC18Y ,  4G169ED03 ,  4G169FB30 ,  4G169FB64 ,  4G169FC08 ,  4H006AA02 ,  4H006AC12 ,  4H006BA02 ,  4H006BA13 ,  4H006BA14 ,  4H006BA19 ,  4H006BA20 ,  4H006BA21 ,  4H006BA30 ,  4H006BA55 ,  4H006BE30 ,  4H039CA29 ,  4H039CC10
引用特許：
審査官引用 (5件)
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