特許
J-GLOBAL ID:201703003771848190

水素生成システム

発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (3件): 渡邊 喜平 ,  中山 真一 ,  岡本 和道
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願2015-115994
公開番号(公開出願番号):特開2016-175821
出願日: 2015年06月08日
公開日(公表日): 2016年10月06日
要約:
【課題】有機ハイドライドから水素を効率よく生成することができ、その際のエネルギー損失も少なく、省エネルギーの水素生成システムを提供する。【解決手段】金属担持触媒の存在下にマイクロ波を照射して、有機ハイドライドから水素を生成する水素生成システムであって、金属担持触媒が充填された反応容器11と、反応容器11に有機ハイドライドを供給する有機ハイドライド供給部12と、マイクロ波を反応容器11に照射するマイクロ波供給部20とを備え、有機ハイドライド供給部12により、有機ハイドライドを流速0.3〜0.7mL/分で反応容器11に供給する。【選択図】 図3
請求項(抜粋):
金属担持触媒の存在下にマイクロ波を照射して、有機ハイドライドから水素を生成する水素生成システムであって、 前記金属担持触媒が充填された反応容器と、 前記反応容器に前記有機ハイドライドを供給する有機ハイドライド供給部と、 前記マイクロ波を前記反応容器に照射するマイクロ波供給部と を備え、 前記有機ハイドライド供給部により、前記有機ハイドライドを流速0.3〜0.7mL/分で前記反応容器に供給することを特徴とする水素生成システム。
IPC (2件):
C01B 3/26 ,  B01J 23/44
FI (2件):
C01B3/26 ,  B01J23/44 M
Fターム (17件):
4G140DA03 ,  4G140DB04 ,  4G140DC03 ,  4G140DC07 ,  4G169AA03 ,  4G169AA11 ,  4G169AA15 ,  4G169BA08B ,  4G169BB02A ,  4G169BB02B ,  4G169BC72B ,  4G169CC40 ,  4G169DA06 ,  4G169EA01X ,  4G169EA01Y ,  4G169EB18X ,  4G169EB18Y
引用特許:
審査官引用 (4件)
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