特許

J-GLOBAL ID：201703003781945622

磁気テープおよび磁気テープ装置

発明者： 小沢 栄貴 ,  金子 徹也 ,  笠田 成人
出願人/特許権者： 富士フイルム株式会社
代理人 (1件)： 特許業務法人特許事務所サイクス
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2016-057866
公開番号（公開出願番号）：特開2017-174476
出願日： 2016年03月23日
公開日（公表日）： 2017年09月28日
要約：

【課題】磁気テープにおける磁性層の表面平滑性の向上とタイミングベースサーボシステムにおけるヘッド位置決め精度向上の両立。【解決手段】磁性層はタイミングベースサーボパターンを有し、磁性層の表面において測定される中心線平均表面粗さRaは1.8nm以下であり、磁性層は脂肪酸エステルを含み、磁気テープを真空加熱する前に磁性層の表面において光学干渉法により測定されるスペーシング分布の半値全幅は0nm超かつ7.0nm以下であり、磁気テープを真空加熱した後に磁性層の表面において光学干渉法により測定されるスペーシング分布の半値全幅は0nm超かつ7.0nm以下であり、かつ磁気テープを真空加熱した後に磁性層の表面において光学干渉法により測定されるスペーシングSafterと磁気テープを真空加熱する前に磁性層の表面において光学干渉法により測定されるスペーシングSbeforeとの差分は0nm超かつ8.0nm以下である磁気テープ。磁気テープ装置。【選択図】なし

請求項（抜粋）：

非磁性支持体上に強磁性粉末および結合剤を含む磁性層を有する磁気テープであって、 前記磁性層は、タイミングベースサーボパターンを有し、 前記磁性層の表面において測定される中心線平均表面粗さRaは、1.8nm以下であり、 前記磁性層は脂肪酸エステルを含み、 前記磁気テープを真空加熱する前に前記磁性層の表面において光学干渉法により測定されるスペーシング分布の半値全幅は、0nm超かつ7.0nm以下であり、 前記磁気テープを真空加熱した後に前記磁性層の表面において光学干渉法により測定されるスペーシング分布の半値全幅は、0nm超かつ7.0nm以下であり、かつ 前記磁気テープを真空加熱した後に前記磁性層の表面において光学干渉法により測定されるスペーシングSafterと、前記磁気テープを真空加熱する前に前記磁性層の表面において光学干渉法により測定されるスペーシングSbeforeとの差分、Safter-Sbefore、は、0nm超かつ8.0nm以下である磁気テープ。

IPC (6件)：

G11B 5/70 ,  G11B 5/78 ,  G11B 5/71 ,  G11B 5/738 ,  G11B 5/708 ,  G11B 5/84

FI (6件)：

G11B5/70 ,  G11B5/78 ,  G11B5/71 ,  G11B5/738 ,  G11B5/708 ,  G11B5/84 C

Fターム (6件)：

5D006BA19 ,  5D006DA04 ,  5D006EA01 ,  5D112AA05 ,  5D112AA22 ,  5D112JJ03