特許

J-GLOBAL ID：201703004018418073

蛍光X線分析装置

発明者： 山田 康治郎 ,  原 真也 ,  堂井 真
出願人/特許権者： 株式会社リガク
代理人 (3件)： 杉本 修司 ,  野田 雅士 ,  堤 健郎
公報種別：再公表公報
出願番号（国際出願番号）：JP2016069689
公開番号（公開出願番号）：WO2017-026200
出願日： 2016年07月01日
公開日（公表日）： 2017年02月16日
要約：

測定線評価手段(23)が、薄膜について指定された組成および/または厚さに基づいて、指定された測定線のすべてについて理論計算により推定測定強度を算出し、1つの測定線の推定測定強度のみを所定量変化させて、変化させた測定線ごとにファンダメンタルパラメーター法により推定測定強度変化後の薄膜の組成および/または厚さの定量値を求め、その定量値と指定された組成および/または厚さとに基づいて、定量誤差の推定および/または分析の可否の判断を行う。

請求項（抜粋）：

単層もしくは多層の薄膜を基板上にまたは独立して形成した試料に1次X線を照射し、発生する2次X線の測定強度に基づいてファンダメンタルパラメーター法により前記薄膜の組成および/または厚さの定量値を求める蛍光X線分析装置であって、 強度を測定すべき2次X線である測定線による分析について、定量誤差の推定および/または分析の可否の判断を行う測定線評価手段と、 その測定線評価手段によって得られた定量誤差および/または分析の可否を表示器に表示させる表示制御手段とを備え、 前記測定線評価手段が、 前記薄膜について指定された組成および/または厚さに基づいて、指定された測定線のすべてについて理論強度計算および装置感度により推定測定強度を算出し、 その推定測定強度の組のうち1つの測定線の推定測定強度のみを所定量変化させた推定測定強度の組に基づいて、ファンダメンタルパラメーター法により推定測定強度変化後の前記薄膜の組成および/または厚さの定量値を求める手順を、推定測定強度を変化させる測定線を変えて繰返し、 求めた定量値と前記指定された組成および/または厚さとに基づいて、前記定量誤差の推定および/または分析の可否の判断を行う蛍光X線分析装置。

IPC (1件)：

G01N 23/223

FI (1件)：

G01N23/223

Fターム (7件)：

2G001AA01 ,  2G001BA04 ,  2G001CA01 ,  2G001KA01 ,  2G001KA11 ,  2G001LA02 ,  2G001MA05