特許

J-GLOBAL ID：201703004020106224

塗布装置

発明者： 鈴木 暁雄
出願人/特許権者： 東レエンジニアリング株式会社
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2016-035151
公開番号（公開出願番号）：特開2017-148761
出願日： 2016年02月26日
公開日（公表日）： 2017年08月31日
要約：

【課題】薄いフィルム基板であってもステージ上に安定して保持し、均一厚さの塗布膜を形成することができる塗布装置を提供する。【解決手段】基板を載置するステージと、ステージに載置された基板に対し相対的に一方向に移動しつつ塗布液を吐出することにより基板上に塗布膜を形成する塗布ユニットと、を備える塗布装置であって、ステージには、塗布膜が形成される基板の塗布領域以外の非塗布領域を保持する非塗布領域保持部と、塗布領域を保持する塗布領域保持部と、を有しており、非塗布領域保持部は、ステージの表面に吸引力を発生させて基板を吸着して保持する吸引部を有しており、塗布領域保持部は、ステージの表面に形成される保持力調節溝を有しており、この保持力調節溝の保持力は、非塗布領域保持部の保持力よりも小さく、かつ、基板が平坦な姿勢を維持する程度に調節されている構成とする。【選択図】図2

請求項（抜粋）：

基板を載置するステージと、 前記ステージに載置された前記基板に対し相対的に一方向に移動しつつ塗布液を吐出することにより前記基板上に塗布膜を形成する塗布ユニットと、 を備える塗布装置であって、 前記ステージには、塗布膜が形成される基板の塗布領域以外の非塗布領域を保持する非塗布領域保持部と、前記塗布領域を保持する塗布領域保持部と、を有しており、 前記非塗布領域保持部は、前記ステージの表面に吸引力を発生させて前記基板を吸着して保持する吸引部を有しており、 前記塗布領域保持部は、前記ステージの表面に形成される保持力調節溝を有しており、この保持力調節溝の保持力は、前記非塗布領域保持部の保持力よりも小さく、かつ、前記基板が平坦な姿勢を維持する程度に調節されていることを特徴とする塗布装置。

IPC (4件)：

B05C 13/02 ,  B05C 5/02 ,  H01L 21/027 ,  H01L 21/683

FI (4件)：

B05C13/02 ,  B05C5/02 ,  H01L21/30 564Z ,  H01L21/68 P

Fターム (24件)：

4F041AA02 ,  4F041AA05 ,  4F041AB01 ,  4F041CA02 ,  4F042AA02 ,  4F042AA06 ,  4F042AA10 ,  4F042BA25 ,  4F042DF09 ,  5F131AA03 ,  5F131AA13 ,  5F131AA32 ,  5F131BA12 ,  5F131CA06 ,  5F131CA07 ,  5F131EA06 ,  5F131EB02 ,  5F131EB04 ,  5F131EB05 ,  5F131EB43 ,  5F131EB72 ,  5F131EB73 ,  5F146JA01 ,  5F146JA27