ガス分流供給装置及びガス分流供給方法

発明者： , , , , , ,
出願人/特許権者： ,
代理人 (2件)：杉本丈夫 , 谷田龍一
公報種別：特許公報
出願番号（国際出願番号）：特願2013-179237
公開番号（公開出願番号）：特開2015-049569
特許番号：特許第6193679号
出願日： 2013年08月30日
公開日（公表日）： 2015年03月16日
請求項（抜粋）：

【請求項1】ガス供給源からのガスの流量制御装置と、流量制御装置からのガスをガス使用箇所へ分流する並列に接続した複数の分流路と、各分流路に介設した熱式流量センサと、熱式流量センサの下流側に設けた電動弁と、各電動弁の開閉を制御するコントローラと、外部から流量比指令値が入力されると共に各熱式流量センサの流量から総流量を演算し、当該演算した総流量と前記流量比指令値とから各分流路の流量値を演算して各コントローラへ当該演算流量値を設定流量として入力する流量比設定演算器RSCとを備え、先ず、前記流量比設定演算器RSCから入力された設定流量値が最大となる何れか一の分流路を非制御状態としてその開度を一定値に保持すると共に、その他の分流路に設けられた電動弁を、前記設定流量に基づいて、検出流量がフィードバック制御レベルに達するまで一定速度で駆動し、その後、各分流路の分流量を各コントローラによりフィードバック制御する構成としたことを特徴とするガス分流供給装置。

IPC (1件)：

G05D 7/06 ( 200 6.01)

FI (1件)：

G05D 7/06 B

引用特許：

出願人引用 (9件)

半導体処理のためのガス供給装置
公報種別：公表公報出願番号：特願2002-535153 出願人：ラムリサーチコーポレーション
特公昭52-031514
質量流量比システムおよび方法
公報種別：公開公報出願番号：特願2002-380308 出願人：エムケーエスインスツルメント,インコーポレーテッド

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審査官引用 (10件)

半導体処理のためのガス供給装置
公報種別：公表公報出願番号：特願2002-535153 出願人：ラムリサーチコーポレーション
特公昭52-031514
質量流量比システムおよび方法
公報種別：公開公報出願番号：特願2002-380308 出願人：エムケーエスインスツルメント,インコーポレーテッド

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