特許

J-GLOBAL ID：201703004162088487

金属光沢膜を製造する方法。

発明者： 星野 勝義 ,  徳田 琢也
出願人/特許権者： 国立大学法人 千葉大学
代理人 (1件)： 高橋 昌義
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2015-177110
公開番号（公開出願番号）：特開2017-052856
出願日： 2015年09月08日
公開日（公表日）： 2017年03月16日
要約：

【課題】複雑な形状の基板であっても均一に金属光沢膜を製造することのできる方法を提供する。【解決手段】本発明の一観点にかかるチオフェン重合体からなる金属光沢膜を製造する方法は、チオフェンモノマーを、電位掃引法を用いて導電体上に電解重合することを特徴とする。また、本観点において、電位掃引法は、負電位と正電位の間で掃引することが好ましい。また、本観点において、負電位は、-1.5V以上-0.01V以下の範囲であり、正電位は、+1.0V以上+3.0V以下の範囲であることが好ましい。また、本観点において、電位掃引法は、掃引速度を、0.1mV/秒以上10V/秒以下の範囲とすることが好ましい。【選択図】 図1

請求項（抜粋）：

チオフェンモノマーを、電位掃引法を用いて導電体上に電解重合することでチオフェン重合体からなる金属光沢膜を製造する方法。

IPC (2件)：

C08J 5/18 ,  C08G 61/12

FI (2件)：

C08J5/18 ,  C08G61/12

Fターム (24件)：

4F071AA61A ,  4F071AB13A ,  4F071AC05A ,  4F071AE19A ,  4F071AF32A ,  4F071AG04 ,  4F071AG36 ,  4F071AH15 ,  4F071BA02 ,  4F071BB02 ,  4F071BB13 ,  4F071BC01 ,  4F071BC10 ,  4F071BC17 ,  4F071CA01 ,  4F071CB02 ,  4F071CD05 ,  4J032BA03 ,  4J032BA04 ,  4J032BB01 ,  4J032BC22 ,  4J032BC25 ,  4J032CG01 ,  4J032CG06

引用特許：

審査官引用 (3件)

• 電気化学ディバイス
  公報種別：公開公報   出願番号：特願2002-036172   出願人：セントラル硝子株式会社
• 特開平2-209497
  
• 導電性高分子およびそれを用いた固体電解コンデンサ
  公報種別：公開公報   出願番号：特願2008-053391   出願人：NECトーキン株式会社