特許

J-GLOBAL ID：201703004356328870

パターン形成装置、基板配置方法及び物品の製造方法

発明者： 舟橋 直紀
出願人/特許権者： キヤノン株式会社
代理人 (2件)： 阿部 琢磨 ,  黒岩 創吾
公報種別：特許公報
出願番号（国際出願番号）：特願2016-109653
特許番号：特許第6207671号
出願日： 2016年06月01日
要約：

【課題】基板のアライメントマークを基板の吸着面側から検出する光学系を用いてアライメントマークを検出する際の検出エラーを低減する。 【解決手段】基板310上にパターンを形成するパターン形成装置であって、移動可能なステージと、ステージに対して着脱可能に設けられる、基板を吸着して保持する保持部400と、保持部400に対する位置が固定して設けられ、保持部に吸着される前記基板のアライメントマーク304を基板の吸着面側から検出するための光学系160と、光学系160の検出視野の位置を測定するための基準マークと、基準マークを検出する検出系16と、を有し、光学系160により基板の吸着面側から検出される基板のアライメントマーク304が光学系160の検出視野内に入るように、検出系により検出された基準マークの位置に基づいて保持部400に基板を配置する。 【選択図】図5

請求項（抜粋）：

【請求項1】 基板上にパターンを形成するパターン形成装置であって、 移動可能なステージと、 前記ステージに対して着脱可能に設けられる、前記基板を吸着して保持する保持部と、前記保持部に対する位置が固定して設けられ、前記保持部に吸着される前記基板のアライメントマークを前記基板の吸着面側から検出するための光学系と、 前記光学系の検出視野の位置を測定するための基準マークと、 前記基準マークを検出する検出部と、を有し、 前記光学系により前記基板の吸着面側から検出される前記基板のアライメントマークが前記光学系の検出視野内に入るように、前記検出部により検出された前記基準マークの位置に基づいて前記保持部に前記基板を配置する、ことを特徴とするパターン形成装置。

IPC (3件)：

G03F 7/20 ( 200 6.01) ,  G03F 9/00 ( 200 6.01) ,  H01L 21/68 ( 200 6.01)

FI (3件)：

G03F 7/20 521 ,  G03F 9/00 H ,  H01L 21/68 F