特許
J-GLOBAL ID：201703004533491565

研磨用組成物

発明者：
玉田 修一

玉田 修一 について


出願人/特許権者：
株式会社フジミインコーポレーテッド

株式会社フジミインコーポレーテッド について


代理人 (2件)： 恩田 博宣 ,  恩田 誠
公報種別：特許公報
出願番号（国際出願番号）：特願2012-061154
公開番号（公開出願番号）：特開2013-197211
特許番号：特許第6095897号
出願日： 2012年03月16日
公開日（公表日）： 2013年09月30日
請求項（抜粋）：
【請求項1】 Ge又はSiGe材料を含有する部分とケイ素材料を含有する部分とを有する研磨対象物を研磨する用途で使用される研磨用組成物であって、平均一次粒子径が40nm以下である砥粒と、酸化剤とを含有し、pHが5〜9であることを特徴とする研磨用組成物。
IPC (3件)：
H01L 21/304 ( 200 6.01) ,  B24B 37/00 ( 201 2.01) ,  C09K 3/14 ( 200 6.01)
FI (5件)：
H01L 21/304 622 D ,  H01L 21/304 622 W ,  B24B 37/00 H ,  C09K 3/14 550 Z ,  C09K 3/14 550 C
引用特許：
出願人引用 (4件)
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審査官引用 (4件)
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