塩、酸発生剤、レジスト組成物及びレジストパターンの製造方法

発明者： , ,
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：新樹グローバル・アイピー特許業務法人
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2016-213194
公開番号（公開出願番号）：特開2017-095446
出願日： 2016年10月31日
公開日（公表日）： 2017年06月01日
要約：

【課題】良好な形状でレジストパターンを製造できる塩、酸発生剤及びこれを含むレジスト組成物を提供することを目的とする。【解決手段】式(I)で表される塩、酸発生剤及びこれを含むレジスト組成物。[式(I)中、Q1及びQ2は、それぞれ独立に、フッ素原子又は炭素数1〜6のペルフルオロアルキル基を表す。Lb1は、炭素数1〜24の2価の飽和炭化水素基を表し、該飽和炭化水素基に含まれる-CH2-は、-O-又は-CO-に置き換わっていてもよく、該飽和炭化水素基に含まれる水素原子は、フッ素原子又はヒドロキシ基で置換されていてもよい。Adは、アダマンタントリイル基を表す。R1は、それぞれ独立に、環状エーテル構造を含む有機基又は水素原子を表す。但し、R1の少なくとも1つは、環状エーテル構造を含む有機基を表す。Z+は、有機カチオンを表す。]【選択図】なし

請求項（抜粋）：

式(I)で表される塩。

IPC (7件)：

C07D 305/06 , C07D 303/16 , G03F 7/004 , G03F 7/038 , G03F 7/039 , G03F 7/20 , C09K 3/00

FI (8件)：

C07D305/06 , C07D303/16 , G03F7/004 503A , G03F7/038 601 , G03F7/039 601 , G03F7/004 501 , G03F7/20 521 , C09K3/00 K

Fターム (47件)：

2H197AA06 , 2H197AA12 , 2H197CA06 , 2H197CA08 , 2H197CE01 , 2H197CE10 , 2H197HA03 , 2H225AF11P , 2H225AF16P , 2H225AF22P , 2H225AF24P , 2H225AF53P , 2H225AF54P , 2H225AF67P , 2H225AF69P , 2H225AF71P , 2H225AF91P , 2H225AF99P , 2H225AH17 , 2H225AH19 , 2H225AJ13 , 2H225AJ55 , 2H225AJ59 , 2H225AM22P , 2H225AM99P , 2H225AN38P , 2H225AN39P , 2H225AN45P , 2H225AN54P , 2H225BA02P , 2H225BA26P , 2H225BA30P , 2H225CA12 , 2H225CB10 , 2H225CC01 , 2H225CC15 , 2H225CD05 , 4C048AA01 , 4C048AA04 , 4C048BB12 , 4C048BB13 , 4C048BC01 , 4C048CC01 , 4C048TT02 , 4C048UU10 , 4C048XX01 , 4C048XX04

引用特許：

出願人引用 (1件)

特許第6757234号

審査官引用 (2件)

特許第6757234号
特許第6757234号

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