特許
J-GLOBAL ID：201703004792956100
磁気ディスク基板の製造方法
発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
特許業務法人池内・佐藤アンドパートナーズ
公報種別：特許公報
出願番号（国際出願番号）：特願2012-267313
公開番号（公開出願番号）：特開2014-029754
特許番号：特許第6125814号
出願日： 2012年12月06日
公開日（公表日）： 2014年02月13日
請求項（抜粋）：
【請求項1】 (1)シリカ粒子A及び水を含有する研磨液組成物Aを被研磨基板の研磨対象面に供給し、前記研磨対象面に研磨パッドを接触させ、前記研磨パッド及び/又は前記被研磨基板を動かして前記研磨対象面を研磨する工程;
(2)工程(1)で得られた基板を洗浄する工程;及び、
(3)シリカ粒子B及び水を含有する研磨液組成物Bを工程(2)で得られた基板の研磨対象面に供給し、前記研磨対象面に研磨パッドを接触させ、前記研磨パッド及び/又は前記被研磨基板を動かして前記研磨対象面を研磨する工程;
を有し、
前記工程(1)と(3)は別の研磨機で行い、
前記シリカ粒子Aは、電子顕微鏡観察で得られる粒子の絶対最大長の平均が80〜500nmであり、前記絶対最大長を直径とする円の面積bを電子顕微鏡観察で得られる該粒子の投影面積aで除して100を乗じた面積比(b/a×100)の平均が110〜200%であり、
前記シリカ粒子Aが、前記面積比(b/a×100)が110〜200%であるシリカ粒子を、全シリカ粒子Aに対して50質量%以上含有する、磁気ディスク基板の製造方法。
IPC (3件)：
G11B 5/84 ( 200 6.01)
, B24B 37/00 ( 201 2.01)
, B24B 1/00 ( 200 6.01)
G11B 5/84 A
, B24B 37/00 H
, B24B 1/00 D
出願人引用 (8件)
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審査官引用 (8件)
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