特許
J-GLOBAL ID：201703004951753355
浸炭制御方法
発明者：
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出願人/特許権者：
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代理人 (1件)：
特許業務法人あいち国際特許事務所
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2015-127920
公開番号（公開出願番号）：特開2017-008403
出願日： 2015年06月25日
公開日（公表日）： 2017年01月12日
要約：
【課題】浸炭処理時における煤の発生を抑制しつつ、表面炭素濃度を制御可能な浸炭制御方法を提供する。【解決手段】浸炭制御方法では、メタンガスを含む炭化水素ガスと水分が添加されたキャリアガスとをガス浸炭炉内に導入して浸炭処理が行われる。浸炭制御方法は、浸炭処理時におけるガス浸炭炉内の雰囲気ガス中の水素ガス濃度XH2とメタンガス濃度XCH4とを得る濃度取得工程と、XCH4/XH22で規定される炉内成分比を算出する算出工程と、 算出された炉内成分比が予め設定された炉内成分比の設定値よりも大きい場合に、ガス浸炭炉内に導入される炭化水素ガスの流量を減少させ、算出された炉内成分比が上記設定値よりも小さい場合に、ガス浸炭炉内に導入される炭化水素ガスの流量を増加させるように制御する制御工程とを有している。【選択図】図1
請求項（抜粋）：
メタンガスを含む炭化水素ガスと水分が添加されたキャリアガスとをガス浸炭炉内に導入して浸炭処理を行う際の浸炭制御方法であって、
上記浸炭処理時における雰囲気ガス中の水素ガス濃度XH2とメタンガス濃度XCH4とを得る濃度取得工程と、
得られた上記水素ガス濃度XH2と上記メタンガス濃度XCH4とに基づいてXCH4/XH22で規定される炉内成分比を算出する算出工程と、
算出された上記炉内成分比が予め設定された上記炉内成分比の設定値よりも大きい場合に、上記ガス浸炭炉内に導入される上記炭化水素ガスの流量を減少させ、算出された上記炉内成分比が上記炉内成分比の設定値よりも小さい場合に、上記ガス浸炭炉内に導入される上記炭化水素ガスの流量を増加させるように制御する制御工程と、
を有することを特徴とする浸炭制御方法。
IPC (1件)：
FI (1件)：
Fターム (4件)：
4K028AA01
, 4K028AB01
, 4K028AC07
, 4K028AC08
