特許
J-GLOBAL ID:201703004975772768

改良フリット材料及び/又は同材料を含む真空断熱ガラスの製造方法

発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (5件): 大森 純一 ,  折居 章 ,  中村 哲平 ,  金子 彩子 ,  金山 慎太郎
公報種別:特許公報
出願番号(国際出願番号):特願2013-555442
特許番号:特許第6173921号
出願日: 2012年02月10日
請求項(抜粋):
【請求項1】 第1電圧で作動する少なくとも1つの赤外線放射体からの波長1100〜2100nmの赤外線エネルギーを、3分から6分の間の予め決められた第1時間の間、酸化ビスマス、酸化亜鉛、ホウ素酸化物、酸化アルミニウム、及び酸化マグネシウムを含むフリット材料に照射することと、 前記フリット材料に対する前記赤外線エネルギーの衝突を減少させるため、前記少なくとも1つの赤外線放射体の作動電圧を、前記第1電圧から第2電圧へ、1分から5分の間の予め決められた第2時間の間下げることと、 前記フリット材料に対する前記赤外線エネルギーの衝突を増加させるため、前記少なくとも1つの赤外線放射体の作動電圧を、前記第2電圧から第3電圧へ、5分から9分の間の予め決められた第3時間の間上げることと、 予め決められた第4時間の間、前記フリット材料を冷却する、又は冷ますことと を含むVIGユニット用端部シールの製造方法。
IPC (2件):
C03C 8/04 ( 200 6.01) ,  C03C 27/04 ( 200 6.01)
FI (2件):
C03C 8/04 ,  C03C 27/04 B
引用特許:
出願人引用 (1件) 審査官引用 (1件)

前のページに戻る