【請求項1】の細菌III型分泌装置(T3SS)阻害化合物であって、
但し式中、
Aは独立してCH又はNであり;
XはClであり;
ZはOであり;
R1、R1’及びR1’’はそれぞれ水素、水素、及びメチルであり;
VはNR2であり;
R2は水素又はアルキルであり;
Yは、一つ以上のヘテロ原子を含んでもよい、そして未置換でも、又は、ハロ、シアノ、ヒドロキシ、アミノ、アルキルアミノ、カルボキシル、アルコキシカルボニル、カルボキサミド、アシルアミノ、アミジノ、スルホンアミド、アミノスルホニル、アルキルスルホニル、アリール、ヘテロアリール、アルコキシ、アルキルチオ、アリールオキシ、及びヘテロアリールオキシから選択される最高4個の置換基で置換されてもよい、1乃至6個の炭素原子の二価の直鎖、分枝、若しくは環状のアルキレン、アルケニレン又はアルキニレンラジカル;
から選択され;
Wは、1乃至3個のアリール、ヘテロアリール、シクロアルキル、又はヘテロシクロアルキル環と付加的に縮合されてもよい、5員環又は6員環を形成するアリール又はヘテロアリールラジカル(但しこの場合のWラジカルは未置換でも、又は、ハロ、シアノ、ヒドロキシ、アミノ、アルキルアミノ、カルボキシル、アルコキシカルボニル、カルボキサミド、アシルアミノ、アミジノ、スルホンアミド、アミノスルホニル、アルキルスルホニル、アリール、ヘテロアリール、アルコキシ、アルキルチオ、アリールオキシ、及びヘテロアリールオキシから選択される最高4個の置換基で置換されてもよい)であり;そして
式中、いずれか二つの置換基は一緒になって前記アリール又はヘテロアリールラジカルWと縮合した芳香族又は非芳香族環構造を形成してもよく、W上に見られる置換基はまた、Y又はR2のいずれか又はY及びR2の両者と選択的に共有結合することで複素環式又は炭素環式の環系を形成してもよく、前記環系は、芳香族、ヘテロ芳香族、又は部分的に芳香族でもよく、ただし、Wは未置換のフェニル基でない;
細菌III型分泌装置(T3SS)阻害化合物。
C07C 235/20 ( 200 6.01)
, C07D 213/64 ( 200 6.01)
, C07D 317/58 ( 200 6.01)
, C07D 405/12 ( 200 6.01)
, C07D 409/12 ( 200 6.01)
, A61K 31/165 ( 200 6.01)
, A61K 31/36 ( 200 6.01)
, A61K 31/44 ( 200 6.01)
, A61K 31/443 ( 200 6.01)
, A61K 31/4436 ( 200 6.01)
, A61P 31/04 ( 200 6.01)
, A61P 43/00 ( 200 6.01)
