特許

J-GLOBAL ID：201703005070972301

マルチ荷電粒子ビーム露光方法及びマルチ荷電粒子ビーム露光装置

発明者： 松本 裕史
出願人/特許権者： 株式会社ニューフレアテクノロジー
代理人 (3件)： 池上 徹真 ,  須藤 章 ,  松山 允之
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2016-111997
公開番号（公開出願番号）：特開2017-220491
出願日： 2016年06月03日
公開日（公表日）： 2017年12月14日
要約：

【課題】マルチビーム描画のスループットの劣化を低減しながら、クーロン効果による焦点ずれを抑制可能なマルチ荷電粒子ビーム露光方法を提供する。【解決手段】本発明の一態様のマルチ荷電粒子ビーム露光方法は、荷電粒子線を用いたマルチビームの複数回のショットについて、ショット毎に、マルチビームのうち当該ショットでビームONになるビーム群の合計電流値に応じて複数のグループのいずれかに割り当てる工程と、同じグループに割り当てられたショット同士が、連続して照射されるようにショット順を変更する工程と、グループ毎に、合計電流値に応じた当該グループ用の焦点補正位置にマルチビームの焦点位置を補正する工程と、同じグループに割り当てられたショット同士を当該グループ用の焦点補正位置にマルチビームの焦点位置が補正された状態で連続して照射するように、マルチビームの複数回のショットを行う工程と、を備えたことを特徴とする。【選択図】図13

請求項（抜粋）：

荷電粒子線を用いたマルチビームの複数回のショットについて、ショット毎に、前記マルチビームのうち当該ショットでビームONになるビーム群の合計電流値に応じて複数のグループのいずれかに割り当てる工程と、 同じグループに割り当てられたショット同士が、連続して照射されるようにショット順を変更する工程と、 グループ毎に、前記合計電流値に応じた当該グループ用の焦点補正位置に前記マルチビームの焦点位置を補正する工程と、 同じグループに割り当てられたショット同士を当該グループ用の焦点補正位置に前記マルチビームの焦点位置が補正された状態で連続して照射するように、前記マルチビームの前記複数回のショットを行う工程と、 を備えたことを特徴とするマルチ荷電粒子ビーム露光方法。

IPC (3件)：

H01L 21/027 ,  G03F 7/20 ,  H01J 37/305

FI (4件)：

H01L21/30 541E ,  G03F7/20 504 ,  H01J37/305 B ,  H01L21/30 541W

Fターム (8件)：

5C034BB04 ,  5C034BB08 ,  5C034BB10 ,  5F056AA33 ,  5F056BA02 ,  5F056CB32 ,  5F056CB40 ,  5F056CD01