特許

J-GLOBAL ID：201703005184362457

Cs含有CHA型ゼオライトの製造方法

発明者： 萩尾 健史 ,  山崎 慎一郎 ,  野田 憲一
出願人/特許権者： 日本碍子株式会社
代理人 (1件)： 新樹グローバル・アイピー特許業務法人
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2016-093331
公開番号（公開出願番号）：特開2017-200865
出願日： 2016年05月06日
公開日（公表日）： 2017年11月09日
要約：

【課題】簡便なCs含有CHA型ゼオライトの製造方法を提供する。【解決手段】Cs含有CHA型ゼオライトの製造方法は、Cs源、アルカリ源、Al源及びSi源を少なくとも含む原料溶液にゼオライト種結晶を添加して100°C以上、170°C以下で水熱合成することによって、Cs含有CHA型ゼオライトを合成する工程を備える。ゼオライト種結晶は、CHA型ゼオライト以外のゼオライトによって構成される。ゼオライト種結晶の単位格子の少なくとも1つの軸寸法は、CHA型ゼオライトの単位格子の少なくとも1つの軸寸法の±10%以内である。原料溶液において、Csに対するCs以外のアルカリ金属のモル比は、50以下である。【選択図】図1

請求項（抜粋）：

Cs源、アルカリ源、Al源及びSi源を少なくとも含む原料溶液にゼオライト種結晶を添加して100°C以上、170°C以下で水熱合成することによって、Cs含有CHA型ゼオライトを合成する工程を備え、 前記ゼオライト種結晶は、CHA型ゼオライト以外のゼオライトによって構成され、 前記ゼオライト種結晶の単位格子の少なくとも1つの軸寸法は、CHA型ゼオライトの単位格子の少なくとも1つの軸寸法の±10%以内であり、 前記原料溶液において、Csに対するCs以外のアルカリ金属のモル比は、50以下である、 Cs含有CHA型ゼオライトの製造方法。

IPC (1件)：

C01B 39/46

FI (1件)：

C01B39/46

Fターム (18件)：

4G073BA01 ,  4G073BA04 ,  4G073BA05 ,  4G073BA07 ,  4G073BD05 ,  4G073CZ17 ,  4G073CZ25 ,  4G073CZ41 ,  4G073FA30 ,  4G073FB04 ,  4G073FB11 ,  4G073FB26 ,  4G073FC12 ,  4G073FC25 ,  4G073FC27 ,  4G073FD01 ,  4G073GA03 ,  4G073GA05

引用特許：

審査官引用 (3件)

• アルミノシリケートモレキュラーシーブの種結晶形成による合成
  公報種別：公表公報   出願番号：特願2015-546475   出願人：エクソンモービルリサーチアンドエンジニアリングカンパニー
• チャバザイト型ゼオライト及びその製造方法
  公報種別：公開公報   出願番号：特願2009-285460   出願人：東ソー株式会社
• チャバザイト型ゼオライト及びその製造方法、銅が担持されている低シリカゼオライト、及び、そのゼオライトを含む窒素酸化物還元除去触媒、並びに、その触媒を使用する窒素酸化物還元除去方法
  公報種別：公開公報   出願番号：特願2011-279974   出願人：東ソー株式会社

引用文献：

審査官引用 (1件)

• Direct crystallization of CHA-type zeolite from amorphous aluminosilicate gel by seed-assisted metho