特許

J-GLOBAL ID：201703005281817388

芳香族ビニル化合物が付加したノボラック樹脂を含むレジスト下層膜形成組成物

発明者： 遠藤 貴文 ,  橋本 圭祐 ,  西巻 裕和 ,  坂本 力丸
出願人/特許権者： 日産化学工業株式会社
代理人 (1件)： 特許業務法人はなぶさ特許商標事務所
公報種別：再公表公報
出願番号（国際出願番号）：JP2015057900
公開番号（公開出願番号）：WO2015-151803
出願日： 2015年03月17日
公開日（公表日）： 2015年10月08日
要約：

【課題】 良好な塗布成膜性を発現するためのリソグラフィーに用いられる溶剤への高い溶解性と成膜時に発生する昇華物を低減することが可能なレジスト下層膜形成組成物を提供する。【解決手段】 芳香環含有化合物(A)の芳香環構造と芳香族ビニル化合物(B)のビニル基との反応により得られる構造基(C)を有するノボラック樹脂を含むレジスト下層膜形成組成物。

請求項（抜粋）：

芳香環含有化合物(A)の芳香環構造と芳香族ビニル化合物(B)のビニル基との反応により得られる、構造基(C)を付加的に有するノボラック樹脂を含むレジスト下層膜形成組成物。

IPC (5件)：

G03F 7/11 ,  G03F 7/40 ,  C08G 12/40 ,  C08G 8/30 ,  H01L 21/027

FI (7件)：

G03F7/11 502 ,  G03F7/11 503 ,  G03F7/40 521 ,  C08G12/40 ,  C08G8/30 ,  H01L21/30 573 ,  H01L21/30 574

Fターム (26件)：

2H196AA25 ,  2H196HA23 ,  2H196JA04 ,  2H225AM79N ,  2H225AM90N ,  2H225AN38N ,  2H225AN39N ,  2H225BA01N ,  2H225BA32N ,  2H225CA12 ,  4J033CA05 ,  4J033CA12 ,  4J033CA13 ,  4J033CA14 ,  4J033CA22 ,  4J033CC08 ,  4J033EA52 ,  4J033HA02 ,  4J033HB10 ,  5F146NA01 ,  5F146NA06 ,  5F146NA07 ,  5F146NA14 ,  5F146NA17 ,  5F146NA18 ,  5F146PA07