研磨パッド用洗浄液及び研磨パッドの洗浄方法

発明者： , ,
出願人/特許権者：
代理人 (3件)：長谷川芳樹 , 清水義憲 , 平野裕之
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2016-101360
公開番号（公開出願番号）：特開2017-206647
出願日： 2016年05月20日
公開日（公表日）： 2017年11月24日
要約：

【課題】凹凸を有する被研磨膜をCMP用研磨液で研磨した後に研磨パッドに残存する生成物を効果的に除去することが可能な研磨パッド用洗浄液を提供すること。【解決手段】CMP後の研磨パッド用洗浄液であって、酸性化合物及び水を含有し、且つpHが3.3以下である、洗浄液。【選択図】なし

請求項（抜粋）：

CMP後の研磨パッド用洗浄液であって、酸性化合物及び水を含有し、且つpHが3.3以下である、洗浄液。

IPC (9件)：

C11D 7/08 , B24B 37/00 , H01L 21/304 , C11D 17/08 , C11D 7/34 , C11D 7/26 , C11D 3/04 , C11D 3/20 , C11D 3/34

FI (10件)：

C11D7/08 , B24B37/00 A , H01L21/304 622M , C11D17/08 , C11D7/34 , C11D7/26 , C11D3/04 , C11D3/20 , C11D3/34 , H01L21/304 647Z

Fターム (44件)：

3C158AA07 , 3C158AA19 , 3C158AC04 , 3C158CA01 , 3C158CA04 , 3C158CB01 , 3C158DA12 , 3C158DA17 , 3C158EA11 , 3C158EB01 , 3C158ED10 , 3C158ED11 , 3C158ED12 , 3C158ED22 , 3C158ED26 , 4H003AA00 , 4H003BA12 , 4H003DA14 , 4H003DA15 , 4H003DB01 , 4H003DC01 , 4H003EA03 , 4H003EB07 , 4H003EB08 , 4H003EB22 , 4H003FA04 , 4H003FA28 , 5F057AA21 , 5F057BA11 , 5F057BB03 , 5F057CA12 , 5F057DA03 , 5F057EC30 , 5F057FA36 , 5F057FA39 , 5F157AA70 , 5F157AA96 , 5F157BC07 , 5F157BD02 , 5F157BE12 , 5F157BE43 , 5F157BE45 , 5F157BF12 , 5F157CC00

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