特許

J-GLOBAL ID：201703005941019293

成膜装置

発明者： 田中 優
出願人/特許権者： 株式会社島津製作所
代理人 (2件)： 三好 秀和 ,  伊藤 正和
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2016-013227
公開番号（公開出願番号）：特開2017-133061
出願日： 2016年01月27日
公開日（公表日）： 2017年08月03日
要約：

【課題】パーティクルの剥離に起因するプロセスチャンバーの内部の環境の劣化を防止できる成膜装置を提供する。【解決手段】処理対象のワーク100が格納されるプロセスチャンバー10と、プロセスチャンバー10の側壁の内壁面に沿って配置され、内壁面に垂直な断面形状が上部に開口部を有するポケット形状を構成する収納領域200を有するパーティクル収納部20とを備える。【選択図】図1

請求項（抜粋）：

処理対象のワークが格納されるプロセスチャンバーと、 前記プロセスチャンバーの側壁の内壁面に沿って配置され、前記内壁面に垂直な断面形状が上部に開口部を有するポケット形状を構成する収納領域を有するパーティクル収納部と を備えることを特徴とする成膜装置。

IPC (3件)：

C23C 16/44 ,  C23C 14/00 ,  H01L 21/205

FI (3件)：

C23C16/44 J ,  C23C14/00 B ,  H01L21/205

Fターム (13件)：

4K029DA10 ,  4K029FA09 ,  4K030DA06 ,  4K030FA03 ,  4K030KA11 ,  4K030KA12 ,  4K030KA45 ,  5F045AA08 ,  5F045BB15 ,  5F045DP20 ,  5F045EB02 ,  5F045EC05 ,  5F045EH14