特許

J-GLOBAL ID：201703006066860180

気泡生成装置及び気泡生成方法

発明者： 五島 崇
出願人/特許権者： 国立大学法人 鹿児島大学
代理人 (4件)： 木村 満 ,  末富 孝典 ,  山口 浩一 ,  山中 生太
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2016-102492
公開番号（公開出願番号）：特開2017-023996
出願日： 2016年05月23日
公開日（公表日）： 2017年02月02日
要約：

【課題】大がかりな構成を必要とせずに、微細化された気泡を効率よく生成することができる技術を提供する。【解決手段】気泡生成装置100は、下流端10aが液体L中に配置されるガス流路10と、ガス流路10の上流端10bに接続された電磁弁20と、電磁弁20に接続されたガスタンク30及び真空ポンプ40と、電磁弁20を制御する弁制御装置50とを備える。電磁弁20、ガスタンク30、真空ポンプ40、及び弁制御装置50によって構成されるガス圧制御装置が、ガス流路10内を減圧することで、液体Lがガス流路10内のガスと混ざり合うように、液体Lを下流端10aから吸い込ませたのち、ガス流路10内を加圧することで、ガス流路10内の液体L及びガスを、下流端10aから噴出させる。【選択図】図1

請求項（抜粋）：

下流端が液体中に配置されるガス流路と、 前記ガス流路内を減圧することにより、前記液体が前記ガス流路内のガスと混ざり合うように、前記液体を前記下流端から吸い込ませたのち、前記ガス流路内を加圧することにより、前記ガス流路内の前記液体及び該液体と混ざり合った前記ガスを、前記下流端から前記液体中に噴出させるガス圧制御装置と、 を備える気泡生成装置。

IPC (4件)：

B01F 5/06 ,  B01F 3/04 ,  B01F 5/00 ,  B01F 15/02

FI (5件)：

B01F5/06 ,  B01F3/04 Z ,  B01F5/00 D ,  B01F15/02 A ,  B01F15/02 C

Fターム (9件)：

4G035AB26 ,  4G035AB27 ,  4G035AC26 ,  4G035AE02 ,  4G035AE13 ,  4G037AA01 ,  4G037AA11 ,  4G037AA18 ,  4G037EA01

引用特許：

審査官引用 (3件)

• 特公昭46-019095
  
• 特開昭52-069056
  
• 特表平6-503976