特許
J-GLOBAL ID：201703006232735186
スパッタリングターゲット及びその製造方法
発明者：
,
出願人/特許権者：
代理人 (3件)：
渡邊 喜平
, 田中 有子
, 佐藤 猛
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2013-212109
公開番号（公開出願番号）：特開2017-014535
出願日： 2013年10月09日
公開日（公表日）： 2017年01月19日
要約：
【課題】ターゲット表面の面内の色ムラをなくすことで、ターゲット研磨時の研磨量を低減させ、製造のタクトタイムを短くし生産性を上げるとともに、歩留りを向上させる。【解決手段】酸化インジウム及び酸化亜鉛を主成分とし、In2O3(ZnO)m(式中、m=2〜7の整数)で表される六方晶層状化合物を含有し、チタン、ジルコニウム、ハフニウム、バナジウム、ニオブ、タンタル、ルテニウム、ロジウム、イリジウム、ゲルマニウム、スズ、アンチモン及び鉛からなる群から選択される1種又は2種以上の第三元素の含有量が100ppm〜50000ppmであり、表面又は任意に切断した面における最大色度と最小色度の差Δb*値が、0〜5であり、平均結晶粒径が2μm〜10μmであるスパッタリングターゲット。【選択図】なし
請求項（抜粋）：
酸化インジウム及び酸化亜鉛を主成分とし、
In2O3(ZnO)m(式中、m=2〜7の整数)で表される六方晶層状化合物を含有し、
チタン、ジルコニウム、ハフニウム、バナジウム、ニオブ、タンタル、ルテニウム、ロジウム、イリジウム、ゲルマニウム、スズ、アンチモン及び鉛からなる群から選択される1種又は2種以上の第三元素の含有量が100ppm〜50000ppmであり、
表面又は任意に切断した面における最大色度と最小色度の差Δb*値が、0〜5であり、
平均結晶粒径が2μm〜10μmであるスパッタリングターゲット。
IPC (2件)：
FI (2件)：
C23C14/34 A
, C23C14/08 K
4K029AA24
, 4K029BA15
, 4K029BA17
, 4K029BA45
, 4K029BA49
, 4K029BA50
, 4K029BC09
, 4K029BD01
, 4K029CA05
, 4K029DC05
, 4K029DC09
