特許

J-GLOBAL ID：201703006303372276

細胞処理方法、レーザ加工機、細胞培養容器

発明者： 鈴木 正美 ,  西 則男 ,  松本 潤一 ,  須丸 公雄 ,  金森 敏幸
出願人/特許権者： 株式会社片岡製作所 ,  国立研究開発法人産業技術総合研究所
代理人 (1件)： 赤澤 一博
公報種別：再公表公報
出願番号（国際出願番号）：JP2016059769
公開番号（公開出願番号）：WO2016-194454
出願日： 2016年03月25日
公開日（公表日）： 2016年12月08日
要約：

高速かつ短時間のレーザ照射処理を通じて、培養容器上で培養された細胞のうちの特定の細胞を致死させるべく、容器本体にレーザ光の照射を受けてこれを吸収する材料を含む層である被照射層が設けられた培養容器の被照射層の表面上で細胞を培養するとともに、当該被照射層における、致死させるべき特定の細胞の直下の箇所にレーザ光を照射するようにした。

請求項（抜粋）：

容器本体にレーザ光の照射を受けてこれを吸収する材料を含む層である被照射層が設けられた細胞培養容器の被照射層の表面上で培養された細胞のうちの特定の細胞を致死させる方法であって、 前記被照射層における致死させるべき細胞の直下の箇所にレーザ光を照射する細胞処理方法。

IPC (3件)：

C12N 1/00 ,  C12M 1/00 ,  C12M 1/42

FI (3件)：

C12N1/00 N ,  C12M1/00 A ,  C12M1/42

Fターム (27件)：

4B029AA01 ,  4B029AA09 ,  4B029AA21 ,  4B029AA27 ,  4B029BB11 ,  4B029CC02 ,  4B029DG10 ,  4B029FA15 ,  4B029GA01 ,  4B029GB06 ,  4B029GB10 ,  4B029HA10 ,  4B063QA01 ,  4B063QA18 ,  4B063QA20 ,  4B063QQ08 ,  4B063QR66 ,  4B063QR90 ,  4B063QS22 ,  4B063QS36 ,  4B063QS40 ,  4B063QX02 ,  4B065AA90X ,  4B065BA25 ,  4B065BA30 ,  4B065BD50 ,  4B065CA44