特許

J-GLOBAL ID：201703006434967089

プロセス処理装置

発明者： 三科 健 ,  猿渡 哲也
出願人/特許権者： 株式会社島津製作所
代理人 (2件)： 三好 秀和 ,  伊藤 正和
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2015-076573
公開番号（公開出願番号）：特開2016-197652
出願日： 2015年04月03日
公開日（公表日）： 2016年11月24日
要約：

【課題】チャンバーの内部からガスを均一に排出できるプロセス処理装置を提供する。【解決手段】排気口が設けられたチャンバーと、互いに対向する第1主面から第2主面まで厚さ方向に貫通するスリットが形成され且つ第1主面が排気口に対向して配置された第1の排気プレート、及び第2主面に対向するように第1の排気プレートと離間して配置された第2の排気プレートを有し、第1の排気プレート及び第2の排気プレートがカーボンを材料とする排気装置とを備え、排気装置が、第1の排気プレートと第2の排気プレートの間を通過させてチャンバーの内部からガスを外部に排出する。【選択図】図1

請求項（抜粋）：

排気口が設けられたチャンバーと、 互いに対向する第1主面から第2主面まで厚さ方向に貫通するスリットが形成され且つ前記第1主面が前記排気口に対向して配置された第1の排気プレート、及び前記第2主面に対向するように前記第1の排気プレートと離間して配置された第2の排気プレートを有し、前記第1の排気プレート及び前記第2の排気プレートがカーボンを材料とする排気装置と を備え、 前記排気装置が、前記第1の排気プレートと前記第2の排気プレートの間を通過させて前記チャンバーの内部からガスを外部に排出することを特徴とするプロセス処理装置。

IPC (2件)：

H01L 21/205 ,  C23C 16/455

FI (2件)：

H01L21/205 ,  C23C16/455

Fターム (27件)：

4K030AA06 ,  4K030AA13 ,  4K030AA14 ,  4K030BA27 ,  4K030BA29 ,  4K030BA35 ,  4K030BA40 ,  4K030BA44 ,  4K030EA11 ,  4K030FA01 ,  4K030GA02 ,  4K030KA12 ,  4K030KA46 ,  5F045AA08 ,  5F045AB02 ,  5F045AB31 ,  5F045AB32 ,  5F045AB33 ,  5F045AC01 ,  5F045AC12 ,  5F045BB02 ,  5F045BB03 ,  5F045BB08 ,  5F045EE20 ,  5F045EF20 ,  5F045EH04 ,  5F045EH12