特許

J-GLOBAL ID：201703006788361684

液浸上層膜形成用組成物

発明者： 佐藤 光央 ,  峯岸 信也
出願人/特許権者： JSR株式会社
代理人 (1件)： 天野 一規
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2016-158209
公開番号（公開出願番号）：特開2017-004002
出願日： 2016年08月10日
公開日（公表日）： 2017年01月05日
要約：

【課題】液浸露光プロセスにおいて、液浸上層膜表面の液浸露光時の後退接触角をより大きくすることができ、かつ現像欠陥の発生を抑制することができると共に、さらに良好な形状のレジストパターンを形成可能な液浸上層膜形成用組成物を提供する。【解決手段】式(1)で表される構造単位を有する重合体(a1)を含む重合体成分、及び溶媒を含有する液浸上層膜形成用組成物。式(1)中、R1は、アルカリ解離性基であり、炭素数1〜20のフッ素化アルキル基又は炭素数1〜20のフッ素化アルキルカルボニル基が好ましい。Aは、-CO-O-*、-O-、-NRA-又は-SO2-O-*である。Xは、炭素数1〜20の2価のフッ素化炭化水素基である。【選択図】なし

請求項（抜粋）：

下記式(1)で表される構造単位を有する重合体(a1)を含む重合体成分、及び 溶媒 を含有する液浸上層膜形成用組成物。

IPC (2件)：

G03F 7/11 ,  C08F 20/22

FI (3件)：

G03F7/11 501 ,  G03F7/11 502 ,  C08F20/22

Fターム (64件)：

2H225AF24P ,  2H225AF33P ,  2H225AF35P ,  2H225AF44P ,  2H225AH17 ,  2H225AH19 ,  2H225AH40 ,  2H225AH49 ,  2H225AH50 ,  2H225AJ13 ,  2H225AJ16 ,  2H225AJ53 ,  2H225AJ54 ,  2H225AJ56 ,  2H225AJ63 ,  2H225AL03 ,  2H225AL27 ,  2H225AM22N ,  2H225AM27N ,  2H225AM29N ,  2H225AM91N ,  2H225AM94N ,  2H225AM99N ,  2H225AN11N ,  2H225AN31N ,  2H225AN39P ,  2H225AN42P ,  2H225AN54P ,  2H225BA01N ,  2H225BA01P ,  2H225BA02P ,  2H225BA26P ,  2H225BA30N ,  2H225CA12 ,  2H225CB10 ,  2H225CC03 ,  2H225CC15 ,  4J100AL08Q ,  4J100AL24P ,  4J100AL26P ,  4J100AL29P ,  4J100AL31P ,  4J100BA02P ,  4J100BA03Q ,  4J100BA11Q ,  4J100BA15P ,  4J100BB12P ,  4J100BB18P ,  4J100BB18Q ,  4J100BC03P ,  4J100BC03Q ,  4J100BC04Q ,  4J100BC09Q ,  4J100BC53Q ,  4J100CA01 ,  4J100CA04 ,  4J100DA01 ,  4J100DA04 ,  4J100DA39 ,  4J100DA40 ,  4J100FA28 ,  4J100FA30 ,  4J100JA37 ,  4J100JA38