パターン精度検出装置及び加工システム

発明者： , , , , , , , , ,
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：日向寺雅彦
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2016-052906
公開番号（公開出願番号）：特開2017-167000
出願日： 2016年03月16日
公開日（公表日）： 2017年09月21日
要約：

【課題】重ね合わせ誤差を高精度で検出できるパターン精度検出装置及び加工システムを提供する。【解決手段】パターン精度検出装置110は、反り検出部20と処理部40とを含む。反り検出部は、基板50の第1状態における第1反り及び基板の第2状態における第2反りを検出する。第1状態において基板の第1面50aの上に第1パターンを有する第1膜50fが設けられる。第2状態において第1面の上に第2パターンを有する第2膜が設けられる。処理部は、第1反りに関する情報、第2反りに関する情報、第1面に第1膜が設けられ第1反りとは異なる反りの第3状態における第1パターンの位置に関する情報、及び、第1面に第2膜が設けられ第2反りとは異なる反りの第4状態における第2パターンの位置に関する情報に基づいて、第2状態における、第1パターンの位置と第2パターンの位置との差に応じた値を導出する。【選択図】図1

請求項（抜粋）：

基板の第1状態における第1反り及び前記基板の第2状態における第2反りを検出する反り検出部であって、前記第1状態において前記基板の第1面の上に第1パターンを有する第1膜が設けられ、前記第2状態において前記第1面の上に第2パターンを有する第2膜が設けられた、前記反り検出部と、前記第1反りに関する第1情報、前記第2反りに関する第2情報、前記第1面に前記第1膜が設けられ前記第1反りとは異なる反りの第3状態における前記第1パターンの前記第1面内の位置に関する第3情報、及び、前記第1面に前記第2膜が設けられ前記第2反りとは異なる反りの第4状態における前記第2パターンの前記第1面内の位置に関する第4情報に基づいて、前記第2状態における、前記第1パターンの前記第1面内の前記位置と前記第2パターンの前記第1面内の前記位置との差に応じた値を導出する処理部と、備えたパターン精度検出装置。

IPC (5件)：

G01B 11/24 , G03F 7/207 , H05K 3/00 , H01L 21/66 , G01B 11/00

FI (7件)：

G01B11/24 M , G03F7/207 H , H05K3/00 Q , H05K3/00 L , H01L21/66 J , H01L21/66 K , G01B11/00 A

Fターム (16件)：

2F065AA01 , 2F065AA20 , 2F065AA45 , 2F065BB02 , 2F065CC31 , 2F065PP11 , 2F065QQ25 , 2F065TT06 , 2H197EB16 , 2H197JA17 , 4M106AA01 , 4M106BA02 , 4M106BA04 , 4M106CA39 , 4M106CA47 , 4M106DB21

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