特許
J-GLOBAL ID：201703007006199731

大型位相シフトマスクおよび大型位相シフトマスクの製造方法

発明者：
木下 一樹

木下 一樹 について

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飛田 敦

飛田 敦 について

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二嶋 悟

二嶋 悟 について


出願人/特許権者：
大日本印刷株式会社

大日本印刷株式会社 について


代理人 (2件)： 山下 昭彦 ,  岸本 達人
公報種別：特許公報
出願番号（国際出願番号）：特願2013-539714
特許番号：特許第6127977号
出願日： 2012年10月19日
請求項（抜粋）：
【請求項1】 透明基板と、前記透明基板上に形成された遮光膜と、前記透明基板上に形成された半透明な位相シフト膜を有し、 前記透明基板が露出した透過領域と、前記透明基板上に前記遮光膜が設けられた遮光領域と、前記透明基板上に前記位相シフト膜のみが設けられた位相シフト領域を有し、前記透過領域および前記位相シフト領域が隣接するパターンを有し、前記透過領域と前記遮光領域との間に位相シフト領域が隣接して配置されており、前記位相シフト領域を透過した露光光は、前記透過領域を透過した露光光に対し位相が反転している位相シフトマスクにおいて、 少なくともその一辺の長さが350mm以上であり、 前記遮光膜はクロムまたはクロム化合物を主成分とし、前記位相シフト膜は酸化クロムないし酸化窒化クロムを主成分とし、前記遮光領域では遮光膜上に位相シフト膜が積層されており、 前記遮光領域の前記遮光膜と前記位相シフト膜との間に、反射防止膜をさらに有することを特徴とする、大型位相シフトマスク。
IPC (2件)：
G03F 1/32 ( 201 2.01) ,  G03F 1/54 ( 201 2.01)
FI (2件)：
G03F 1/32 ,  G03F 1/54
引用特許：
出願人引用 (4件)
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審査官引用 (4件)
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