特許

J-GLOBAL ID：201703007113986401

表示装置製造用位相シフトマスクの製造方法

発明者： 坪井 誠治 ,  花岡 修 ,  山田 剛之 ,  星野 旭希
出願人/特許権者： HOYA株式会社
代理人 (3件)： 永田 豊 ,  大島 孝文 ,  太田 司
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2016-063447
公開番号（公開出願番号）：特開2017-181544
出願日： 2016年03月28日
公開日（公表日）： 2017年10月05日
要約：

【課題】安全に位相シフトマスクを作製できる位相シフトマスクの製造方法を提供する。【解決手段】ガラス基板2と、ガラス基板2上に形成された、ガラス基板2をエッチングするウェットエッチング液に対してエッチング耐性を有する材料からなるエッチングマスク膜パターンとを備えたエッチングマスク膜パターン付き基板を作製する工程と、エッチングマスク膜パターンをマスクとして、無機アルカリで中和されたキレート剤を含む水溶液を用いたウェットエッチングによって、ガラス基板2を所定量掘り込むことにより位相シフト部8を形成する工程と、を有する。【選択図】図3

請求項（抜粋）：

表示装置製造用位相シフトマスクの製造方法であって、 ガラス基板と、該ガラス基板上に形成された、該ガラス基板をエッチングするウェットエッチング液に対してエッチング耐性を有する材料からなるエッチングマスク膜パターンとを備えたエッチングマスク膜パターン付き基板を作製する工程と、 前記エッチングマスク膜パターンをマスクとして、無機アルカリで中和されたキレート剤を含む水溶液を前記ウェットエッチング液として用いたウェットエッチングによって、前記ガラス基板を所定量掘り込むことにより位相シフト部を形成する工程と、 を有することを特徴とする表示装置製造用位相シフトマスクの製造方法。

IPC (7件)：

G03F 1/80 ,  G03F 1/30 ,  G03F 1/34 ,  G02F 1/136 ,  C03C 15/00 ,  C03C 17/09 ,  C03C 17/22

FI (8件)：

G03F1/80 ,  G03F1/30 ,  G03F1/34 ,  G02F1/1362 ,  C03C15/00 D ,  C03C15/00 B ,  C03C17/09 ,  C03C17/22 Z

Fターム (18件)：

2H192HA35 ,  2H195BA07 ,  2H195BA12 ,  2H195BB03 ,  2H195BB15 ,  2H195BB36 ,  2H195BC05 ,  2H195BC14 ,  2H195BC27 ,  4G059AA11 ,  4G059AB01 ,  4G059AB09 ,  4G059AB11 ,  4G059AC01 ,  4G059AC04 ,  4G059AC05 ,  4G059BB04 ,  4G059DA07