特許

J-GLOBAL ID：201703007183490349

放射線検出装置の製造方法

発明者： 田坂 知樹 ,  藤森 裕也 ,  水村 通伸 ,  梶山 康一
出願人/特許権者： 株式会社ブイ・テクノロジー
代理人 (1件)： 特許業務法人日誠国際特許事務所
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2016-017740
公開番号（公開出願番号）：特開2017-138140
出願日： 2016年02月02日
公開日（公表日）： 2017年08月10日
要約：

【課題】簡便に製造することができ、しかも歩留まりの良い、発光利用効率の高い放射線検出装置の製造方法を提供すること。【解決手段】センサ基板1上にシンチレータ部形成用マスク5を配置し、シンチレータ材料で複数のシンチレータ部6を形成するシンチレータ部形成工程と、シンチレータ部形成用マスク5を除去するマスク除去工程と、マスク除去工程の後に、複数のシンチレータ部6が形成されたセンサ基板1上に、遮光性材料膜8を形成する遮光性材料膜形成工程と、を備える。【選択図】図3

請求項（抜粋）：

それぞれ画素を構成する複数の光センサ部が配置されたセンサ基板と、それぞれの前記光センサ部に一つずつ対応するように配置された、複数のシンチレータ部と、前記シンチレータ部同士の間に形成された隔壁と、を備えた放射線検出装置の製造方法であって、 前記センサ基板上にシンチレータ部形成用マスクを配置した状態で、前記センサ基板上にシンチレータ材料を付着させて前記複数のシンチレータ部を形成するシンチレータ部形成工程と、 前記シンチレータ部形成用マスクを除去して前記センサ基板上に前記複数のシンチレータ部を残すマスク除去工程と、 前記マスク除去工程の後に、前記センサ基板上の前記複数のシンチレータ部を覆うように、遮光性材料膜を形成する遮光性材料膜形成工程と、 を備えることを特徴とする放射線検出装置の製造方法。

IPC (2件)：

G01T 1/20 ,  A61B 6/00

FI (5件)：

G01T1/20 L ,  G01T1/20 E ,  G01T1/20 G ,  G01T1/20 D ,  A61B6/00 300S

Fターム (13件)：

2G188AA02 ,  2G188BB02 ,  2G188CC15 ,  2G188CC16 ,  2G188CC19 ,  2G188CC22 ,  2G188DD05 ,  2G188DD42 ,  2G188DD44 ,  4C093AA01 ,  4C093AA21 ,  4C093CA32 ,  4C093EB12