特許

J-GLOBAL ID：201703007494610364

処理基板保持治具

発明者： 竹内 一馬
出願人/特許権者： 株式会社NSC
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2016-052055
公開番号（公開出願番号）：特開2017-168612
出願日： 2016年03月16日
公開日（公表日）： 2017年09月21日
要約：

【課題】ディップ方式のエッチング処理において、ガラス基板等の板状処理基板の一部分だけが不均一にエッチングされる不具合を低減することが可能な処理基板保持治具を提供する。【解決手段】処理基板保持治具10は、下端支持部材12およびガイド部材142を少なくとも備え、複数のガラス基板100を立たせた状態で保持するように構成される。下端支持部材12は、ガラス基板100を下から支持できるように構成されており、支持されたガラス基板の両側に貫通孔122を有している。ガイド部材142は、ガラス基板100と隣に配置されるガラス基板100とが接触することを防止するように構成される。【選択図】図1

請求項（抜粋）：

エッチングされるべき複数の板状処理基板を立たせた状態で保持するように構成された処理基板保持治具であって、 前記板状処理基板の下端を下から支持するように構成された少なくとも1つ以上の下端支持部材と、 前記板状処理基板の辺縁部の一部または全部において板厚方向の両側に所定の間隙を設けて配置され、前記板状処理基板の辺縁部の搖動を抑制するように構成されたガイド部材と、 を少なくとも備え、 前記下端支持部材は、前記処理基板支持位置の板厚方向の両側に、上下方向に貫通した貫通孔を有することを特徴とする処理基板保持治具。

IPC (2件)：

H01L 21/306 ,  H01L 21/683

FI (2件)：

H01L21/306 K ,  H01L21/68 N

Fターム (13件)：

5F043AA40 ,  5F043BB30 ,  5F043EE35 ,  5F131AA03 ,  5F131BA18 ,  5F131CA06 ,  5F131EC22 ,  5F131GA03 ,  5F131GA22 ,  5F131GA27 ,  5F131GA43 ,  5F131GA52 ,  5F131GA63