特許

J-GLOBAL ID：201703007531417863

成膜装置及び成膜ワーク製造方法

発明者： 福岡 洋太郎 ,  八木 聡介
出願人/特許権者： 芝浦メカトロニクス株式会社
代理人 (1件)： 木内 光春
公報種別：再公表公報
出願番号（国際出願番号）：JP2016056079
公開番号（公開出願番号）：WO2016-152395
出願日： 2016年02月29日
公開日（公表日）： 2016年09月29日
要約：

簡素な構成で、立体物等の複数の面を有するワークに対して、均一な厚さで成膜することができる成膜装置及び成膜ワーク製造方法を提供する。平面SU3を含む成膜材料のターゲット21と、ターゲット21に電力を印加する電源部3と、成膜対象であるワークWを自転軸AX1を中心として自転させる自転部4と、自転部4を、自転軸4とは別の公転軸AX2を中心に公転させることにより、ターゲット21に対するワークWの接近と離隔を反復させる公転部5と、を有し、自転中及び公転中における自転軸4は、これに直交する自転軌道面SU1が公転軸AX2に直交する公転軌道面SU2に対して第1の傾斜角度θ1を有する角度に固定され、ターゲット21は、平面SU3が公転軌道面SU2に対して第2の傾斜角度SU2を有する角度に固定されている。

請求項（抜粋）：

平面を含む成膜材料のターゲットと、 ターゲットに電力を印加する電源部と、 成膜対象であるワークを自転軸を中心として自転させる自転部と、 前記自転部を、前記自転軸とは別の公転軸を中心に公転させることにより、前記ターゲットに対する前記ワークの接近と離隔を反復させる公転部と、 を有し、 自転中及び公転中における前記自転軸は、これに直交する前記自転軌道面が前記公転軸に直交する公転軌道面に対して第1の傾斜角度となる角度に固定され、 前記ターゲットは、前記平面が前記公転軌道面に対して第2の傾斜角度となる角度に固定されていることを特徴とする成膜装置。

IPC (2件)：

C23C 14/50 ,  C23C 14/34

FI (2件)：

C23C14/50 H ,  C23C14/34 J

Fターム (6件)：

4K029AA21 ,  4K029CA05 ,  4K029DC16 ,  4K029DC34 ,  4K029EA01 ,  4K029JA03