特許

J-GLOBAL ID：201703007851897570

ホイールリムの処理方法及び方法に使用するための組成物

発明者： ダムス,ルドルフ イェー. ,  クーネベーク,ベルント ,  デーレン,レオナルドゥス ,  ケーラー,フランク ,  フルタク,クリストフ ,  オーデネールト,フランス アー.
出願人/特許権者： スリーエム イノベイティブ プロパティズ カンパニー
代理人 (5件)： 青木 篤 ,  石田 敬 ,  古賀 哲次 ,  高橋 正俊 ,  加藤 憲一
公報種別：特許公報
出願番号（国際出願番号）：特願2016-014267
公開番号（公開出願番号）：特開2016-106167
特許番号：特許第6096947号
出願日： 2016年01月28日
公開日（公表日）： 2016年06月16日
請求項（抜粋）：

【請求項1】 有機溶媒中に分散又は溶解した以下のもの: (a)以下からなる群から選択される少なくとも1種のポリマー、 (1)(i)下記式: A-X-[Si(R)2-O]n-Si(R)2-X-A (式中、Aはイソシアネート反応性基であり、Xは二価結合基であり、各Rは独立して1〜4個の炭素原子のアルキル基又はアリール基であり、nは2〜200の値である)で表される、末端基がイソシアネート反応性基を含むポリシロキサンと、(ii)ジイソシアネートと、(iii)メルカプト基及びイソシアネート反応性基を含む連鎖移動剤の存在下での、少なくとも1つの-SiY官能基(式中、Yは加水分解性基を示す)を有するエチレン性不飽和モノマーのフリーラジカル反応生成物である化合物と、の1種以上の反応生成物を含むポリマー、及び (2)2つ以上のメルカプト基を有するポリシロキサンの存在下での、少なくとも1つの-SiY官能基(式中、Yは加水分解性基を示す)を有するエチレン性不飽和モノマーのフリーラジカル反応の1種以上の反応生成物、並びに、 (b)式(I): QnSiG4-n (I) (式中、Qは、所望により置換できる炭化水素基を表し、Gは加水分解性基を表し、nは0、1又は2である) に対応する少なくとも1種の加水分解性シラン又はその加水分解生成物若しくは縮合体、 を含む、コーティング組成物。

IPC (5件)：

C09D 183/06 ( 200 6.01) ,  C08G 18/62 ( 200 6.01) ,  C09D 175/04 ( 200 6.01) ,  C09D 183/02 ( 200 6.01) ,  C23C 26/00 ( 200 6.01)

FI (5件)：

C09D 183/06 ,  C08G 18/62 ,  C09D 175/04 ,  C09D 183/02 ,  C23C 26/00 A