特許

J-GLOBAL ID：201703007876043680

粉体原料と液体原料の混合装置、及びその混合装置を用いた混合物の製造方法

発明者： 土本 義紘
出願人/特許権者： 東海技研株式会社
代理人 (1件)： 大菅 義之
公報種別：再公表公報
出願番号（国際出願番号）：JP2013067058
公開番号（公開出願番号）：WO2014-203390
出願日： 2013年06月21日
公開日（公表日）： 2014年12月24日
要約：

紛体材料と液体材料を均一に混合させる混合装置を提供する。粉体原料を回転円盤に供給して展開させ、外周部近くにおいて分散粒子群の薄い層を形成させる。一方、回転円盤の上方に、同軸上を同機回転する回転霧化器を設け、その内面に液体原料を供給して霧化頭に導いて微粒化し、液滴群を水平に放射させる。分散粒子群と液滴群とを先細りの楔状空間にて合流・凝縮させて、緻密で均質な混合物にした上、外周から放射させる。

請求項（抜粋）：

鉛直軸を中心に回転し、該鉛直軸方向より供給された粉体原料を外縁方向へ放射する第1の円盤と、 前記第1の円盤の上面から所定の距離離して配置された、静止した第2の円盤であって、該所定の距離離すことにより形成される第1の間隙に前記第1の円盤上で放射された前記紛体原料を通して均すように設けられた該第2の円盤と、 前記第2の円盤を覆い、前記第1の円盤と同軸で回転し、回転中に供給された液体原料を霧化して外縁方向に放射する霧化頭を有する第3の円盤と、 該第3の円盤より小さい半径を有し、該第3の円盤の下面から所定の距離離して該第3の円盤と固定され、該第3の円盤と同軸でかつ一体で回転し、最外周部において、水平な上面と、外縁側に向かって上り傾斜を持つ下面とを有する第4の円盤であって、該第4の円盤の上面と前記第3の円盤の下面との間に形成される第2の間隙を前記霧化した液体材料が通過するように設けられた該第4の円盤と、 前記第4の円盤の下方に設けられ、該第4の円盤の下面から所定の距離離して配置され、前記第1の円盤と同軸かつ一体で回転し、該第4の円盤より大きい半径を有する第5の円盤であって、該第5の円盤の上面と前記第4の円盤の下面との間に形成される第3の間隙を前記第2の円盤により均された前記紛体材料が通過するように設けられた該第5の円盤と、 を備え、 前記第4の円盤の上面及び下面方向より該第4の円盤を挟んで前記第3の円盤の外縁側の下面と前記第5の円盤の外縁側の上面とは対向して合わさり、前記第4の円盤の外縁と前記第3の円盤の外縁側の下面と前記第5の円盤の外縁側の上面との間に形成された第4の間隙にて、前記第2の間隙から放射された前記液体原料と前記第3の間隙から放射された前記紛体原料とが結合した混合物が前記第3の円盤と前記第5の円盤とが対向して合わさっている部分に堆積し、該堆積した混合物の量及び混合物にかかる遠心力に応じて、該対向して合わさっている前記第3の円盤の押し上げまたは前記第5の円盤の押し下げを行い、該混合物を前記第3の円盤及び前記第5の円盤の円周方向に放射する ことを特徴とする混合装置。

IPC (5件)：

B01F 13/00 ,  B01F 5/22 ,  B01F 3/12 ,  B01F 15/02 ,  B01F 15/00

FI (6件)：

B01F13/00 Z ,  B01F5/22 ,  B01F3/12 ,  B01F15/02 A ,  B01F15/02 B ,  B01F15/00 D

Fターム (14件)：

4B032DB01 ,  4B032DG02 ,  4B032DP08 ,  4B046LA01 ,  4B046LG29 ,  4B046LP80 ,  4G035AB43 ,  4G035AC38 ,  4G035AE13 ,  4G036AC70 ,  4G037AA02 ,  4G037AA05 ,  4G037DA15 ,  4G037EA10