特許
J-GLOBAL ID:201703007941609069

発光素子

発明者:
出願人/特許権者:
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願2016-075007
公開番号(公開出願番号):特開2016-219787
出願日: 2016年04月04日
公開日(公表日): 2016年12月22日
要約:
【課題】発光素子の面内における発光強度分布を改善する。【解決手段】n型半導体層と、n型半導体層上でn型半導体層の一部を除く領域に設けられたp型半導体層と、を有する平面視で多角形状の半導体積層体と、半導体積層体上で、p型半導体層上に設けられた少なくとも1つのp側開口と、n型半導体層上に設けられた複数のn側開口と、を有する絶縁膜と、絶縁膜上に設けられn側開口を通じてn型半導体層と導通した第1のnコンタクト部を有するn側電極と、p側開口を通じてp型半導体層と導通したp側電極と、を備えている。そして、平面視で、半導体積層体の一方の辺側には、第1のnコンタクト部と、p側電極上に設けられたp側ポスト電極が設けられ、一方の辺側とは反対側である他方の辺側には、第1のnコンタクト部と、n側電極上に設けられたn側ポスト電極と、が設けられ、他方の辺側に設けられた第1のnコンタクト部の総面積は、一方の辺側に設けられた第1のnコンタクト部の総面積よりも小さい発光素子。【選択図】図1
請求項(抜粋):
n型半導体層と、前記n型半導体層上で前記n型半導体層の一部を除く領域に設けられたp型半導体層と、を有する平面視で多角形状の半導体積層体と、 前記半導体積層体上で、前記p型半導体層上に設けられた少なくとも1つのp側開口と、前記n型半導体層上に設けられた複数のn側開口と、を有する絶縁膜と、 前記絶縁膜上に設けられ前記n側開口を通じて前記n型半導体層と導通した第1のnコンタクト部を有するn側電極と、 前記p側開口を通じて前記p型半導体層と導通したp側電極と、を備え、 平面視で、前記半導体積層体の一方の辺側には、前記第1のnコンタクト部と、前記p側電極上に設けられたp側ポスト電極が設けられ、 前記一方の辺側とは反対側である他方の辺側には、前記第1のnコンタクト部と、前記n側電極上に設けられたn側ポスト電極と、が設けられ、 前記他方の辺側に設けられた前記第1のnコンタクト部の総面積は、前記一方の辺側に設けられた前記第1のnコンタクト部の総面積よりも小さい発光素子。
IPC (1件):
H01L 33/38
FI (1件):
H01L33/38
Fターム (4件):
5F241AA05 ,  5F241CA40 ,  5F241CA87 ,  5F241CB15
引用特許:
審査官引用 (1件)
  • 発光装置
    公報種別:公開公報   出願番号:特願2016-039722   出願人:日亜化学工業株式会社

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