特許
J-GLOBAL ID：201703008150093227
メッキ装置及びメッキ方法並びに導電性パターンの製造方法
発明者：
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出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
丸山 英一
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2016-047626
公開番号（公開出願番号）：特開2017-160503
出願日： 2016年03月10日
公開日（公表日）： 2017年09月14日
要約：
【課題】メッキ液中において被メッキ材を搬送しながら行う電解メッキにおいて、特に被メッキ材の電気抵抗が大きい場合においても、好適な電解メッキを施すことができるメッキ装置及びメッキ方法並びに導電性パターンの製造方法を提供すること。【解決手段】メッキ液2中に配置されたアノード6と、メッキ液2中を経てメッキ液2外に搬送された長尺状シート7の被メッキ部71にメッキ液2外において接触するカソードロール5,5と、アノード6よりも搬送方向下流側のメッキ液2中に配置されたメッキ抑制板8とを備え、カソードロール5,5から被メッキ部71に対して搬送方向の逆方向に電子を供給して電解メッキを行う。【選択図】図1
請求項（抜粋）：
メッキ液中に配置されたアノードと、
前記メッキ液中を経て該メッキ液外に搬送された長尺状シートの被メッキ部に該メッキ液外において接触し、該被メッキ部に、該長尺状シートの搬送方向の逆方向に電子を供給して、該被メッキ部を前記メッキ液中においてカソードとする給電体と、
前記アノードよりも、前記搬送方向の下流側の前記メッキ液中に配置されたメッキ抑制板とを備え、
前記長尺状シートの被メッキ部に電解メッキを行うことを特徴とするメッキ装置。
IPC (4件)：
C25D 17/10
, C25D 5/02
, C25D 21/00
, C25D 7/06
C25D17/10 A
, C25D5/02 J
, C25D21/00 J
, C25D21/00 G
, C25D7/06 H
4K024CB01
, 4K024CB02
, 4K024CB03
, 4K024CB07
, 4K024CB10
, 4K024CB21
